Gebraucht ULTRATECH SSP 300E2 #9135164 zu verkaufen

Hersteller
ULTRATECH
Modell
SSP 300E2
ID: 9135164
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
GHI Broadband illumination stepper, 12" (3) Load ports Reticle (2) Wafers Transfer robot Pre-aligner Wafer edge exclusion arm XY-Stage, 12" Illumination Electronic rack Transformer Optic: Mirror, cold, GHI Reflector, ellipsoidal Lens: PLCX, SI02, 48FL, 22TH, 36DIA Mirror, detector, with holes, WFLD Filter, UV blocking, GHI UV Type: GHI Line / 436 nm Illumination: Mercury arc lamp, 1200 W Field size: 44 mm x 25.7 mm Reticle size: 152 mm x 152 mm x 6.35 mm Stage: Focus: Air probe type WEM: Ring type Laser: He-Ne laser, 633 nm 2004 vintage.
ULTRATECH SSP 300E2 ist ein hochpräziser Wafer-Stepper für die Halbleiterlithographie. Es ist eine innovative Ausrüstung, die modernste Lithographietechnologie mit fortschrittlichen Automatisierungsfunktionen kombiniert, die einen außerordentlich zuverlässigen Betrieb bieten. SSP 300E2 verfügt über ein vielseitiges Hochleistungs-Wafer-Alignment-System und modernste Motion-Control-Technologie, die eine schnelle, genaue und wiederholbare Positionierung von Wafern auf dem Schrittfutter ermöglicht. Mit einem integrierten automatischen Füller wird die Wafer-Indexierung automatisch abgeschlossen, wodurch manuelle Operationen und das Fehlerpotenzial eliminiert werden. ULTRATECH SSP 300E2 Wafer Stepper bietet eine breite Palette von erweiterten Bildgebungsfunktionen, einschließlich optimierter 5facher Belichtung und fortschrittlicher Multimuster. Das Gerät ist mit einem großen Arbeitsbereich ausgestattet, der eine volle Belichtung großer 14-Zoll-Wafer ermöglicht. SSP 300E2 ist strukturiert, um eine Reihe von Druckmodi zu unterstützen, einschließlich teilbelichteter Mehrfachdruck, konformes Drucken, Verschiebebelichtungsdruck und Stufenbelichtung. Die Schrittgenauigkeit von 3mm kann durch den Einsatz von automatischen Ausrichtungs- und Dosisabschattungsfunktionen erreicht werden. ULTRATECH SSP 300E2 wurde mit erweiterten Automatisierungsfunktionen entwickelt und bietet eine komplett automatisierte Maschine ohne manuellen Eingriff. Das Werkzeug enthält einen Robot Handler mit einem Wafer Tray Loader, der bis zu zehn Wafer automatisch exakt in das Futter laden kann. Es hat auch einen integrierten Job-Programm-Generator, entworfen, um Benutzern zu ermöglichen, schnell und einfach einrichten mehrere Zutaten Dosen und Overlays. SSP 300E2 bietet eine hervorragende Bildgebungsleistung mit einer minimalen Linienbreite von 90 nm und einer erweiterten Auflösung im Submikron-Bereich. Es ist effizient und energiesparend, um die Betriebskosten im Laufe der Zeit zu senken. Um einen konsistenten und zuverlässigen Betrieb zu gewährleisten, ist die Anlage mit integrierter Hardware- und Softwarediagnose konzipiert - Überwachung und Reporting von Maschinenparametern, um eine optimale Leistung zu erhalten. ULTRATECH SSP 300E2 Wafer Stepper ist das ideale Werkzeug für fortschrittliche Lithographie-Anwendungen, die zuverlässige Bedienung, genaue Schrittpositionierung und schnelle, präzise und wiederholbare Bildgebungsleistung. Es ist eines der technologisch fortschrittlichsten Systeme auf dem Markt - perfekt für kosteneffiziente und effiziente Produktionsumgebungen.
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