Gebraucht ULTRATECH Star 100 #9252513 zu verkaufen

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Hersteller
ULTRATECH
Modell
Star 100
ID: 9252513
Stepper Illumination field size: 39 x 18 mm Light pipe type: Diffuser Field size: 30 x 18 mm MVS Type: Patmax Series 2 bridge Flipper less Reticle size: 3" x 5" PC With windows 2000 Platform Air probe type: Round Edge switch: Air probe Theta stage: Pop-up Wafer handler: Round chuck, 4" Autoloader, 4" Options: Chuck and autoloader, 5" and 6" Upgraded to automation robot system 2006 vintage.
ULTRATECH Star 100 Wafer Stepper ist ein fortschrittliches lithographisches Werkzeug zur Strukturierung sowohl großer als auch kleiner Strukturen auf einem Halbleiterwafer. Es ist ein Top-of-the-Line-Stepper, der in der Lage ist, hochauflösende, hochpräzise Bilder zu erzeugen und gleichzeitig eine hochgenaue Fokussierung und Ausrichtung über den gesamten Wafer zu erhalten. ULTRATECH STAR100 verwendet einen fortschrittlichen Modus der optischen Beleuchtung namens KrF-Immersionslithographie. Diese Technik setzt eine tiefe UV-Beleuchtungsquelle und eine chemische Reaktion zwischen dem Wafer und dem beleuchteten Bereich ein, was aufgrund der größeren Fokustiefe und der geringen Punktgröße der KrF-Quelle zu einer hohen Auflösung führt. Die hochmoderne doppelachsige Projektionsoptik von Star 100 ermöglicht extrem feine Anpassungen bei bildgebenden Funktionen mit engen Toleranzanforderungen. Darüber hinaus bietet die Projektionsoptik eine hohe numerische Apertur, die zusammen mit der Submikron-Auflösung der bildgebenden Ausrüstung dafür sorgt, dass die projizierten lithographischen Muster von höchster Qualität sind. Das ultrapräzise Stadium der STAR100 verbessert seine bildgebende Fähigkeit weiter. Diese Stufe kombiniert ein hochauflösendes Bewegungssteuerungssystem und einen fein abgestimmten Indexierantrieb für beste Ausrichtungsgenauigkeit. Die Stufe hat sowohl x- als auch y-Achsen-Steuerung, um eine Positioniergenauigkeit von 0,5 Mikron zu erreichen. Zur Substratsteuerung verwendet ULTRATECH Star 100 eine mikrokristalline Diamantfuttereinheit. Diese Maschine eliminiert Kanteneffekte und sorgt für eine gleichmäßige Temperaturverteilung über den Wafer für eine optimale Musterübertragung. Die Quell-/Expositionskontrollen von ULTRATECH STAR100 sind auf überlegene Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit ausgelegt. Es verfügt über eine Reihe von einstellbaren Tool 6-Parametern, von Laserleistung bis zur Verschlusszeit, die eine aufwendige Feinabstimmung des Belichtungsprozesses ermöglichen. Schließlich verfügt Star 100 über eine ausgeklügelte Fehlererkennung und Korrektur, die mögliche Probleme erkennen kann, bevor sie Fehler im Herstellungsprozess verursachen. Dieses Modell scannt kontinuierlich die Wafer und überwacht die Parameter auf Abweichungen und kann, falls vorhanden, Alarme aktivieren oder die Prozessparameter automatisch anpassen.
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