Gebraucht ULTRATECH Titan II #9207808 zu verkaufen
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ID: 9207808
Wafergröße: 4"-8"
Wafer stepper, 4"-8"
Reticle size: 5 x 5"
Reticle library: 12-Slots / Bar code reader
Projection ratio 1:1
Lens resolution: 2 um
Field size: 44 mm x 22 mm
Wavelength: GH
Substrate size: 2"-6"
Wafer handling: Cassette to cassette / Interface
(12) Reticle storages with bar code reader
Stage:
Monolithic structure
Linear motor drive
PC:
VME Bus controller
CPU 68030
Graphics monitor
Vibration control: Active air isolation
Alignment:
Global: 120 nm, 3seconds
Site by site: < 120 nm, 3seconds
Alignment spectrum: 500-650 nm
(2) Targets per field required
Imaging and lens:
Feature size: 2.0 micron
Lens distortion: 120 nm
Colinearity: 80 nm
Maximum image area: 55 mm x 18 mm
Exposure spectrum:
Broadband: 390 nm - 450 nm
Wafer plane intensity: > 1200 mW/cm²
Uniformity: 2.0%
Reticle:
Substrate type: 6" x 6" x 0.25" / 5" x 5" x 0.09" quartz
Field / Row: 2-5
Pellicle standoff: 2.0 mm
Square, 4.5":
>83 WPH (100 mJ / cm²)
65 WPH (800 mJ / cm²)
Round, 6":
>75 wph (100 mJ / cm²)
55 wph (800 mJ / cm²)
Field change time: <10 seconds
Reticle change time: <120 seconds
Alignment target: Compatible with 200 mm scribe
DOF: 6 um
Illuminator: 1000 W
Uniformity: 3%
GENMARK Wafer handler
Environmental chamber
HP / HEWLETT-PACKARD 362 Computer running HPL
CE Marked.
ULTRATECH Titan II ist ein vollautomatischer Mehrprojekt-Wafer-Stepper, der für hochpräzise, schnelle Lithographie in einer Reihe von Größen und Formaten entwickelt wurde. Titan II basiert auf einer ganzen Reihe von Masken und verfügt über einen modularen Aufbau, mit dem Benutzer ihre Lithographiesysteme auf die spezifischen Anforderungen der Anwendung anpassen können. Das Gerät verfügt über eine integrierte Prozesskammer, die große Module und mehrteilige Komponenten problemlos handhaben kann. Es bietet eine ausgezeichnete Ausrichtgenauigkeit und Wiederholbarkeit mit einer Auflösung von bis zu 1,5 Mikrometern. ULTRATECH Titan II verfügt außerdem über ein einzigartiges, patentiertes AutoStrobe-Laserinterferometriesystem für die Ausrichtung und Platzierung von Wafer/Maske/Photolack. Titan II wurde für optimalen Durchsatz und Benutzerfreundlichkeit entwickelt. Es enthält eine Selbstdiagnoseeinheit zur Erkennung und Beseitigung von häufigen Ursachen von Fehl- und Fehlstellungen. Die Drei-Achsen-Staging des Steppers ist in der Lage, die benötigten Datenträger und Photomasken in einem wiederholbaren und exakten Modus zu transportieren. ULTRATECH Titan II ist eine hochwertige, leistungsstarke Wafer-Stepper-Maschine. Es ist in der Lage, Komponenten mit einer Auflösung von bis zu 1,5 Mikrometern zu lithographieren, was eine ausgezeichnete Genauigkeit und Wiederholbarkeit ergibt. Das AutoStrobe Laser-Interferometrie-Tool sorgt für eine genaue Ausrichtung und Platzierung von Wafern und Masken, während der modulare Aufbau des Asset es ideal für eine Vielzahl von Anwendungen macht. Titan II ist eine ausgezeichnete Wahl für eine breite Palette von Lithographie-Anforderungen und liefert zuverlässige, genaue und wiederholbare Ergebnisse zu einem sehr wettbewerbsfähigen Preis.
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