Gebraucht ULTRATECH Unity AP300 #9128099 zu verkaufen

Hersteller
ULTRATECH
Modell
Unity AP300
ID: 9128099
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2009
Stepper, 12" Resolution: 2 um Line / Space Field size: 34 x 26 mm Wave length: Ghi-line Illumination: Strength of exposure: 2,063 mW / cm² (Ghi-line) Exposure accuracy: Shutter accuracy: 0.28% (250 mJ) 0.68% (2500 mJ) Illuminator condition: 3.22% SSF Focus Lens resolution: 2.0 um L/S DOF Lens: ±7.5 um Image plane inclination: Wafer chuck flatness: X: -0.0179 um/mm Y: 0.0804 um/mm Alignment accuracy: Overlay accuracy: X: 0.909 um Y: 3.179 um (3-Sigma) Wafer place position accuracy: X: 98.343 um Y: 83.691 um (3-Sigma) Reticle position test: X: 0.480 um Y: 0.624 um (Sigma) TCL Test Benchmark: 115.1 + 22 um (L: 0 um, B: -7.0 um, R: 0.8 um) Data back up: Critical backup 2009 vintage.
ULTRATECH Unity AP300 Wafer Stepper ist eine hochmoderne Präzisions-Lithographie-Ausrüstung, die bei der Herstellung von Halbleiterscheiben eingesetzt wird. Der Stepper verfügt über erweiterte Optik und Multi-Dosis-Fähigkeit, die in der Lage ist, bis zu drei Wafer gleichzeitig abzubilden. Das System wurde entwickelt, um eine qualitativ hochwertige Abbildung von belichteten und unbelichteten Waferoberflächen zu ermöglichen. Das AP300 ist mit einer Opti-Scan-Robotik-Einheit ausgestattet, die eine genaue und wiederholbare Ausrichtung und Bewegung der Wafer innerhalb der Maschine ermöglicht. Die Maschine ist auch in der Lage, zwischen zwei Kameras zu wechseln, so dass der Benutzer sowohl obere als auch untere Oberfläche Bildgebung durchführen. Der Wafer-Stepper wird von einer hochpräzisen, mehrachsigen Stufe angetrieben, die eine Luftfederung und Isolierung des Wafers von der Umgebung sowie eine optimale Bewegungssteuerung ermöglicht. Das Werkzeug verfügt außerdem über einen High-End-Motor mit genauer und wiederholbarer Drehzahlregelung, die eine präzise Bewegung und Position der Wafer während der Lithographie gewährleistet. Der AP300 Wafer Stepper verwendet ein proprietäres Dose Control and Exposure Asset, das beispiellose Stabilität und Präzision bei der Dosisabgabe und der Geschwindigkeit beim Schreiben von Mustern bietet. Das Modell bietet auch erweiterte optische Korrektur mit kalibrierten Gleichförmigkeitsmasken, die eine verbesserte Bildqualität und genauere Lithographie ermöglichen. Die AP300 verwendet auch eine erweiterte Multi-Layer Process (MLP) -Ausrüstung, um den Fortschritt des Wafers während des Schrittes und des Wiederholungsprozesses zu überwachen. Dies hilft, Fehlstellungen zu minimieren und sicherzustellen, dass die richtige Menge an Dosen auf jeden Stempel über den Wafer angewendet wird. Schließlich ist das AP300 mit robusten Sicherheitsmerkmalen gebaut, um einen sicheren Betrieb zu jeder Zeit zu gewährleisten. Der Stepper wird komplett mit einem Gehäuse geliefert, das sicherstellt, dass das System vor äußeren Vibrationen, Staub und EMF abgeschirmt ist. Die Sicherheitsmerkmale umfassen auch einen Not-Aus-Knopf, um den Benutzer vor Schaden zu schützen.
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