Gebraucht ADE / KLA / TENCOR CR81e #293771795 zu verkaufen
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ID: 293771795
Weinlese: 2003
Wafer inspection system
(4) Cassette stations
BROOKS AUTOMATION Load SMIF Robot arm
BROOKS AUTOMATION Unload SMIF Robot arm
KENSINGTON Robot with controller
Inspection stage with optical module
Vacuum: 21 SCFH at 26" Hg
CDA: 81 PSI, 200 cu in/hr min
General exhaust: 4" Duct, 400 CFM
SSL Laser
PSL Calibration
Particle sensitivity:
120 nm LSE
105 nm LSE
Spare parts for CR81e:
Part number / Description
12051137 / LAMBDA Power supply box
12051333 / Dark R268PMT group
12051134 / Bright channel light vacuum tube
12058488 / Air pressure
12051338 / Dark channel arc mirror
12051339 / Focal lengh lens 100MMFL 25.4 mm
12051340 / Robatic arm set
12051513 / Standard wafer supporter
122052995 / PMT Air traffic controller 0092493-001
120562228 / Collection group 398-20281-1
12058498 / KENSINGTON Arm tip
12058499 / KENSINGTON Edge alignment chuck
12114222 / 68060 array processing board 398-20406-1
12114223 / Bright channel analog board CH-0398-20883-1
12114226 / Bright channel analog board CH-1398-20884-1
12114227 / HAZE Tablet 398-20705-1
12114228 / Daek channel X-Axis plate (12BIT) 398-20733-1
12115229 / Bright channel X-Axis plate 398-20630-1
12114231 / Bright channel X-Axis plate CH-1398-20706-1
12114232 / Origin of the pulse plate 398-20841-1
12149175 / CCD Signal transmission board, Robatic arm, 03142
121499223 / CCD Brush, Robot arm, 031409-27
12178367 / Oppsosite signal receiving board, 031409-08
Power supply: 208 VAC, 30 Amps, 47-63 Hz, 3 Phase
2003 vintage.
ADE/KLA/TENCOR CR81e ist eine fortschrittliche Wafer-Prüf- und Messtechnik für die Halbleiterindustrie. Es bietet eine umfassende Palette von Fähigkeiten zur Charakterisierung und Analyse von Halbleiterscheiben, um die höchste Qualität und Leistung der auf ihnen hergestellten integrierten Schaltungen (ICs) zu gewährleisten. ADE CR81e ist ein hochentwickeltes Werkzeug, das verschiedene Messtechniken integriert, um genaue und zuverlässige Daten für die Prozesssteuerung und das Ertragsmanagement in der Halbleiterherstellung bereitzustellen. Eines der Hauptmerkmale des KLA CR81e Systems ist seine Fähigkeit, zerstörungsfreie Tests an Halbleiterscheiben durchzuführen. Dies bedeutet, dass das Gerät die Eigenschaften der Wafer analysieren kann, ohne sie zu beschädigen, wodurch Hersteller Materialverschwendung minimieren und Kosten reduzieren können. Die Maschine verwendet eine Kombination aus optischen, elektrischen und physikalischen Messtechniken, um die Schlüsselparameter der Wafer wie Dicke, Topographie, Fehlerdichte und elektrische Leistung zu bewerten. TENCOR CR81e ist mit fortschrittlichen bildgebenden Funktionen ausgestattet, einschließlich Hellfeld, Dunkelfeld und konfokale Mikroskopie, um die Struktur und Morphologie der Wafer in hoher Auflösung zu visualisieren. Auf diese Weise können Anwender die Oberflächenqualität, die Mustereinheitlichkeit und die auf den Wafern vorhandenen Mängel präzise und präzise überprüfen. Das Tool verfügt auch über automatisierte Bildanalyse-Algorithmen, die schnell große Datenmengen verarbeiten können, um Fehler zu identifizieren und zu klassifizieren, um weitere Analysen durchzuführen. Neben der Bildgebung nutzt CR81e fortgeschrittene Spektroskopietechniken wie Photolumineszenz und Raman-Spektroskopie, um die chemische Zusammensetzung und Kristallstruktur der Wafer zu analysieren. Diese Techniken liefern wertvolle Informationen über die Materialeigenschaften, Dotierstoffkonzentrationen und Strukturfehler in den Wafern, die für die Beurteilung der Qualität und Zuverlässigkeit der darauf hergestellten Halbleiterbauelemente entscheidend sind. Die Anlage kann schnelle und sensible Messungen durchführen, um subtile Variationen in der Zusammensetzung und Struktur der Wafer zu erkennen, sodass Hersteller ihre Prozesse für bessere Leistung und Ertrag optimieren können. Darüber hinaus umfasst ADE/KLA/TENCOR CR81e fortschrittliche messtechnische Werkzeuge wie Atomkraftmikroskopie (AFM) und Ellipsometrie zur Messung der physikalischen Abmessungen und optischen Eigenschaften der Wafer im Nanometermaßstab. Diese Werkzeuge ermöglichen es dem Anwender, die Oberflächenrauhigkeit, Filmdicke und Brechungsindex der Wafer zu charakterisieren, die für die Steuerung der Schichtabscheidungs- und Ätzprozesse bei der Halbleiterherstellung wesentlich sind. Das Modell kann detaillierte 2D- und 3D-Karten der Wafereigenschaften erstellen und wertvolle Einblicke in die Prozessvariationen und Defekte liefern, die die Geräteleistung beeinflussen können. Insgesamt ist ADE CR81e eine umfassende Wafer-Prüf- und Messtechnik, die eine breite Palette von Möglichkeiten für Halbleiterhersteller bietet, um die Qualität und Zuverlässigkeit ihrer Wafer zu bewerten. Seine fortschrittlichen Bildgebungs-, Spektroskopie- und Messtechnologien ermöglichen eine präzise Charakterisierung der Eigenschaften der Wafer und tragen zur Optimierung von Fertigungsprozessen, zur Verbesserung der Geräteleistung und zur Steigerung der Ausbeute in der Halbleiterproduktion bei. KLA CR81e ist ein leistungsstarkes Werkzeug zur Qualitätskontrolle und Prozessoptimierung in der Halbleiterherstellung und somit ein unverzichtbarer Vorteil für den Erfolg fortschrittlicher Halbleiterbauelemente auf dem Markt.
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