Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS NANOSEM 3D #9280517 zu verkaufen
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ID: 9280517
Automated CD metrology system, 8"
Wafer shape: SNNF (Semi Notch No Flat)
Wafer cassette: PP Miraial, 8"
No SMIF Interface
Electron optical system:
Electron gun SCHOTTKY emission source (FEI)
Accelerating voltage: 300 V - 2,000 V
3-Stage Electromagnetic lenses
System with boosting voltage beam deflector module
Objective lens:
Scan coil 2-stage: Electromagnetic deflection (X-axis & Y-axis)
Magnification: 1,000x - 400,000x (100um - 0.25um FOV)
Wafer imaging ability entire surface, 8"
Aspect ratio: >20 : 1
Tilt function: 15° (4 Directions)
Resolution: 2nm (500V)
Optical microscope system:
Camera monochrome: CCD Camera
Magnification: 16x / 220x (450 um / 6000 um FOV)
Wafer imaging ability entire surface, 8"
Workstation:
Model: SGI Octane
OS: Unix
SECS / GEM Communication interface:
Automated image archiving function / Online setup
Measurement function: Contact hole
Line edge analysis / CH Analysis / Slope
Measurement algorithm normal / Foot / Threshold
Wafer stage:
Wafer stage Anorad XY and Z Stage
Moving speed: 300 mm/sec
Function target faraday cup / Resolution target
Wafer transfer:
Wafer shape ability notch / Orientation flat
Pre-alignment sensing by CCD BAR (200/300 mm wafer)
External power distribution unit
Fun filter unit
Prober current:
Low 5pA
Medium 10pA
High 20pA.
AMAT/APPLIED MATERIALS NANOSEM 3D ist eine Hightech-Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die unübertroffene Genauigkeit bei der Charakterisierung von Nanotechnologie-Geräten bietet. AMAT NANOSEM 3D verwendet modernste, fortschrittliche Techniken wie Elektronenstrahl-Standardlithographie, 3D-Bildgebung und eine berührungslose, ungleichmäßige Messung, um schnellere und genauere Gerätetests zu ermöglichen. Das System verfügt über einen Hochgeschwindigkeits-Mehrstrahl für konstante Positionskontrolle und stabile Beleuchtung und bietet qualitativ hochwertige Bilder mit hoher Präzision und Wiederholbarkeit. ANGEWANDTE MATERIALIEN NANOSEM 3D verwendet fortschrittliche Mustererkennungsalgorithmen, um kritische Merkmalsparameter in Schaltungsentwürfen zu identifizieren. Spezialisierte Algorithmen analysieren KE-Kanten, einschließlich Kanten in der Nähe von Kontaktbereichen, und können die KE-Orientierung auch dann genau identifizieren, wenn sie umgekehrt ist. Dies verbessert die Schaltungsleistung und macht Test- und Messzeiten genauer und effizienter. Eine hochpräzise, berührungslose, ungleichmäßige Messeinheit ist in NANOSEM 3D enthalten, um die Gleichmäßigkeit in Nanometermerkmalen sicherzustellen. Die Maschine verfügt über eine Kombination aus vertikaler und lateraler Abtastung zur C-V-Charakterisierung sowie Mehrkanalfähigkeit, die leicht für verschiedene Waferstrukturen angepasst werden kann. Zur Reduzierung von Kopfgeräuschen während der Prüfung enthält AMAT/APPLIED MATERIALS NANOSEM 3D ein einzigartiges Geräuschdetektions- und Isolierwerkzeug. Das Asset verwendet fortgeschrittene Mustererkennungsalgorithmen, um verschiedene Geräusche zu identifizieren, einschließlich thermischer und elektrischer. Mit dieser Funktion können Benutzer Rauschprobleme, die auftreten können, schnell erkennen und isolieren. AMAT NANOSEM 3D ist robust und anpassbar für die Bedürfnisse jeder Produktionsumgebung. Mit seinem modularen Aufbau kann das Modell so konfiguriert werden, dass es den Anforderungen jedes Anwenders entspricht, und kann schnell und einfach geändert werden, um neue Anwendungen einzubinden. Angewandte Materialien NANOSEM 3D ist eine umfassende Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung entwickelt, um fortschrittliche Analyse von Nanotechnologie-Geräten zur Verfügung zu stellen. Seine Spitzentechnologie ermöglicht schnelle, genaue und wiederholbare Tests mit unübertroffener Genauigkeit. NANOSEM 3D ist sicher, die Welt der Nanotechnologie zu revolutionieren.
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