Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Reticle NanoSEM 3D #293643450 zu verkaufen

ID: 293643450
Critical Dimension Scanning Electron Microscope (CD-SEM) Reticle SMIF, 6" Dry pump Standing operator console SECS / GEM and HSMS Mini environment Optical microscope lens: FOV 450 FOV 6000 Power supply: 400-208 V, 3 Phase, 50Hz.
AMAT/APPLIED MATERIALS Reticle NanoSEM 3D ist eine hochpräzise Wafer-Prüf- und Messtechnik, die fortschrittliche Scanelektronenmikroskop (SEM) -Technologie verwendet, um detaillierte 3D-Bildgebung, Kontakttests und Analysen für die Entwicklung integrierter Schaltungen zu ermöglichen. Das System kombiniert eine proprietäre MPAA-Stufe (Multiple Sonde, Active Alignment) mit einer empfindlichen Hochfrequenz-Feldemissionsquelle (RF), um eine extrem leistungsstarke Bildgebung unabhängig von der Probenaufladung zu ermöglichen. Die MPAA-Stufe bietet bis zu Subnanometerauflösung sowohl auf großen als auch auf kleinen Retikelmustern und ermöglicht es dem Benutzer, höchste Vergrößerungen wie 75,000X zu erzielen. Dies ermöglicht höchste Maßgenauigkeit für die konstruierten 3D-Bilder und ermöglicht eine überlegene Geräteentwicklung. AMAT Reticle NanoSEM 3D ist auch mit einem Advanced Electron Backscatter Diffraction (EBSD) Detektor konfiguriert, der hohe Kontrast- und rauscharme Bilder liefert. Es ist in der Lage, Funktionen mit hohem Seitenverhältnis abzubilden und bietet einen überlegenen Kontrast, selbst bei mehr als 1000facher Vergrößerung. Das hohe Leistungsniveau wird durch die Halbleitermuster-qualifizierte motorisierte Stufe aufrechterhalten, die eine außergewöhnliche Genauigkeit durch vordefinierte feste Musterung bietet, wodurch eine Vielzahl von Testmustern einfach und präzise reproduziert werden können. Darüber hinaus verfügt APPLIED MATERIALS Reticle NanoSEM 3D über eine bewährte Signalaufbereitungs- und Steuereinheit, um die höchsten Pegel an Signalverstärkung, Diskriminierung und Signalumschaltung für überlegene Wafer-Prüfgenauigkeit zu gewährleisten. Reticle NanoSEM 3D ist ein wesentliches Werkzeug für die fortschrittliche IC-Entwicklung. Seine Kombination aus hochauflösender Bildgebung, genauer Positionierung und Elektronen-Backscatter-Detektoren machen es zu einer unschätzbaren Ressource für die Entwicklung komplexer Schaltungen und integrierter Systeme. Die Maschine bietet wirklich eine One-Stop-Lösung für fortschrittliche elektronische Konstruktion und Tests.
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