Gebraucht ASML Overlay measurement system #293672253 zu verkaufen

ASML Overlay Messtechnik ist ein Wafer-Prüf- und Messsystem, das in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es kombiniert mechanische, optische und optische/mechanische Messtechnik, um die Position und/oder Überlagerung kritischer Merkmale auf Halbleiterscheiben zu messen. Das Gerät ist in der Lage, extrem präzise Messungen der Ausrichtung zwischen verschiedenen Merkmalen auf einem Wafer oder zwischen verschiedenen Wafern vorzunehmen. Die Maschine verwendet eine hochpräzise Scan-Stufe mit hochauflösenden Encodern, um den Wafer genau zu positionieren, um die Messung von Mustern in einer Vielzahl von Winkeln zu ermöglichen. Der zur Erfassung von Waferdaten verwendete Messkopf besteht aus einem Laser-, Quadrantendetektor und einer Filterradanordnung. Ein hochauflösender motorischer Wafer-Handler hilft bei der Ausrichtung und Prüfung mehrerer Wafer. Das Overlay-Messwerkzeug ist vollständig automatisiert und kann Produktionsvolumen verarbeiten. Unter Verwendung spezialisierter Roboter-Wafer-Handhabungswerkzeuge ist das Asset in der Lage, mehrere Wafer in einem einzigen Zyklus zu handhaben und kann Tausende von Punkten pro Wafer messen. Das Messmodell ist zudem sehr zuverlässig konzipiert, mit minimalen Ausfallzeiten durch regelmäßige Wartung und dedizierte Softwarelösungen. Die Datenerfassung von ASML Overlay Messgeräten erfolgt mittels Off-Axis Backscatter Moiré oder OASM. Diese Technik wird verwendet, um Überlagerung und Ausrichtung zwischen zwei Schichten von Mustern zu messen. OASM verwendet einen Laser, der durch einen Strahlteiler strahlt, um das Licht in zwei Pfade zu unterteilen. Ein Strahl wird durch ein rotierendes Gitter umgelenkt, um die Ausrichtung der beiden Schichten zu messen. Der zweite Strahl wird über das Muster gescannt, um topographische Daten bereitzustellen. Diese Daten werden dann zur Berechnung der Ergebnisse verwendet. Die gemessenen Waferdaten werden mit verschiedenen Visualisierungen in mehreren Formaten dargestellt. Die Daten ermöglichen es dem Benutzer, Messungen wie Overlay, Fehlausrichtung und kritische Bemaßungen schnell zu vergleichen. Es ermöglicht auch die Analyse der CD-Ergebnisse und liefert wertvolle Empfehlungen zu Maßnahmen zur Verbesserung des Ertrags. Overlay-Messsystem ist eine ausgezeichnete Wahl für Halbleiterproduktion, die Flexibilität, Genauigkeit und Zuverlässigkeit für Wafer-Tests und Messtechnik bringt. Es bietet eine breite Palette von Messfunktionen, sowie erweiterte Datenanalyse-Tools, alle in einem kostengünstigen Paket.