Gebraucht CANON IUCM Light uniformity checker for MPA 500 #9218256 zu verkaufen

CANON IUCM Light uniformity checker for MPA 500
ID: 9218256
CANON IUCM Light Uniformity Checker für MPA 500 ist ein Wafer-Prüf- und Messsystem, das entwickelt wurde, um die Lichtgleichförmigkeit von Wafern schnell und genau zu messen. Das System besteht aus einer Lichtquelle, einer Megapixelkamera und empfindlichen Lichtmessdetektoren. Die Lichtquelle ist eine monochromatische Anordnung von LEDs, die auf bestimmte Winkel- und Intensitätseinstellungen programmiert werden kann. Diese Einstellungen ermöglichen es, das Licht unter verschiedenen Winkeln und mit kontrollierter Intensität auf den Wafer zu scheinen, so dass der Effekt genau gemessen werden kann. Zusätzlich werden die LED-Lichtquellen phosphorisiert, was zu einer gleichmäßigen und gleichmäßigen Lichtquelle führt. Die Megapixel-Kamera erfasst das während des Tests vom Wafer emittierte Licht. Diese Kamera hat eine hohe Auflösung und einen großen Dynamikbereich, was bedeutet, dass sie in der Lage ist, die Lichtgleichförmigkeit jedes Wafers genau zu erfassen und zu messen. Die Daten werden dann zur Genauigkeit verarbeitet und zur weiteren Analyse an den PC übertragen. CANON IUCM Light Uniformity Checker verwendet empfindliche Lichtmessdetektoren, um die Leistung des zu prüfenden Wafers genau zu messen. Diese Detektoren sind empfindlich auf bestimmte Wellenlängen und Lichtintensitäten, so dass die Messung der Lichtgleichförmigkeit von einer Vielzahl von Quellen. Schließlich ist CANON IUCM Light Uniformity Checker in der Lage, Daten in grafischer und tabellarischer Form zu analysieren und anzuzeigen. Diese Daten können verwendet werden, um die Lichtgleichmäßigkeit verschiedener Wafer zu vergleichen und andere Tests zu ergänzen. CANON IUCM Light Uniformity Checker ist ein hochgenaues, benutzerfreundliches System, das in der Lage ist, wesentliche Informationen für Wafertests und Messtechnik bereitzustellen. Es ist so konzipiert, dass es zuverlässig, effizient und präzise ist, um die Lichtgleichmäßigkeit von Wafern genau und schnell zu messen und gleichzeitig unschätzbare Daten für die weitere Analyse bereitzustellen.
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