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CHAPMAN MP2000 + ist eine fortschrittliche Wafer-Test- und Messtechnik-Plattform von CHAPMAN Instruments für den Einsatz in einer Vielzahl von Branchen. Diese vielseitige Plattform kann verwendet werden, um eine breite Palette von Wafergrößen, Dicke, Oberflächenindex und Neigungswinkel zu testen und zu messen, was sie zu einem unverzichtbaren Bestandteil des modernen Halbleiterherstellungsprozesses macht. MP2000 + -Ausrüstung basiert auf CHAPMAN renommierten MAPLE™-Plattform, die zuverlässige, schnelle und wiederholbare Wafer-Prüfung und Messtechnik bietet. Das System wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Wafereigenschaften und -parametern schnell und genau zu messen. Die Einheit ist in der Lage, optische, elektrische und mechanische Eigenschaften zu messen, einschließlich Dicke, Oberflächenindex, Dotierungsebene und Neigungswinkel. Mit einer Mindestüberkopfzeit von weniger als 10 Sekunden ist CHAPMAN MP2000 + in der Lage, bis zu 18 Siliziumwafer in einem einzigen Batch-Lauf zu testen. Die Maschine ist auch vorkalibriert und einsatzbereit, sodass keine zusätzlichen Kalibrierungsschritte erforderlich sind. MP2000 + verfügt über eine Hochgeschwindigkeits-Schnittstelle mit PCI-Express-Technologie, die einen schnellen Datentransfer zwischen dem Werkzeug und anderen Instrumenten ermöglicht. Darüber hinaus ist die Anlage aus einem gehärteten Aluminiumrahmen aufgebaut und ist so konzipiert, dass sie hohen Vibrationsfrequenzen standhält und in Umgebungen mit hohen Schockstufen eingesetzt werden kann. Die Plattform verfügt auch über CHAPMAN proprietäre SixtyEqualizer™-Technologie, die extrem genaue automatische Messungen ohne manuelle Korrektur oder Anpassung bietet. Dadurch wird sichergestellt, dass die Ergebnisse immer genau, zuverlässig und wiederholbar sind. Darüber hinaus verfügt die Plattform über mehrere weitere erweiterte Funktionen, darunter Auto-Split, Split-Diagnose und eine intuitive, menügesteuerte Benutzeroberfläche. CHAPMAN MP2000 + wurde entwickelt, um herausragende Leistung und Zuverlässigkeit zu bieten, selbst in den anspruchsvollsten Halbleiterherstellungsumgebungen. Das Modell ist einfach zu bedienen und bietet die hohe Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Wirtschaftlichkeit, die erforderlich sind, um maximale Produktionserträge zu gewährleisten.
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