Gebraucht E+H METROLOGY MX 2012-RA-1L #9311190 zu verkaufen

Die E + H METROLOGY E + H METROLOGY MX 2012-RA-1L ist eine fortschrittliche Wafer-Prüf- und Messtechnik. Es ermöglicht manuelle oder automatisierte Messungen von Wafersubstraten für Halbleiterhersteller und gewährleistet, dass kritische Größen und Positionstoleranzen eingehalten werden. Das System verfügt über eine automatisierte Kalibrierstufe für genaue und konsistente Kalibrierung und Messleistung. Das Gerät verfügt außerdem über eine MEI-CMOS (Micropattern and Electrical Inspection) Maschine zur zerstörungsfreien Prüfung, die ein hohes Signal-Rausch-Verhältnis für jeden Messbereich gewährleistet. Dies ermöglicht Ergebnisse, die zwischen jeder Messung vergleichbar und äußerst präzise sind. Das Werkzeug kann eine breite Palette von Wafern messen, von industriellen IGZO-Wafern bis hin zu mikroelektromechanischen Asset-Wafern (MEMS). Messungen umfassen kritische Abmessungen, Dünnschichtmessungen, Überlagerungsmessungen, Makrofehlermessungen und elektrische Widerstandsprüfungen. Darüber hinaus verfügt das Modell über ein hochgenaues, präzises Rasterelektronenmikroskop (SEM), das es ermöglicht, eine Vielzahl von Fehlern zu identifizieren und genau zu messen. Das SEM hat auch eine hohe Vergrößerung von bis zu 50.000x, um sehr kleine Defekte zu erkennen. Für große Substrate wie Wafer oder andere Substrate auf Halbleiterbasis kann das Gerät auch Profilmessungen mit einem Spinnscheibenpolierer durchführen. Dies ermöglicht eine hohe Präzision und Genauigkeit für die Messung und Analyse großer Oberflächen. Neben den verschiedenen Messungen bietet das System auch Analyse- und Berichtsfunktionen. Es kann sehr detaillierte Berichte erstellen, die alle notwendigen Daten für die Rückverfolgbarkeit und Rückverfolgbarkeitsanalyse für Überwachungszwecke enthalten. Das Gerät verfügt auch über verschiedene Datenverwaltungsfunktionen, wie die Möglichkeit, Daten auf Wechselmedien zu speichern und Daten aus der Ferne von der Maschine auf einen externen Computer zu übertragen oder Daten zum und vom Internet zu übertragen. Insgesamt ist das E + H METROLOGY MX 2012-RA-1L ein fortschrittliches, hochgenaues Wafertest- und Messtechnikwerkzeug. Es verfügt über eine breite Palette von Funktionen, die genaue Messungen ermöglichen, sowie die Bereitstellung von Datenmanagement- und Berichtsfunktionen für Auditierungszwecke. Diese Ressource ist ein wesentliches Werkzeug für die Herstellung und Prüfung von Halbleitern.