Gebraucht E+H METROLOGY MX 203-8-37-Q #9234105 zu verkaufen
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ID: 9234105
Weinlese: 2005
Wafer measurement system
Square / Pseudo-square: 125-156 mm
Gauge type: MX 204-8-25-q
Thickness range: 200 - 600 μm
Real: 180 - 600 μm
CE Marked
2005 vintage.
Die E + H METROLOGY E + H METROLOGY MX 203-8-37-Q ist eine hochempfindliche und präzise Wafer-Prüf- und Messtechnik, die speziell für den Einsatz in der Halbleiterprozesstechnik entwickelt wurde. Es verfügt über ein robustes Design mit einer glänzenden schwarzen Oberfläche, einem Anzeigemodul für die Benutzeroberfläche und einem Schichtelektrometersystem mit 8 Achsen/Sensoren zur Prüfung/Messung verschiedener Parameter. Darüber hinaus wird es entwickelt, um außergewöhnliche Genauigkeit und Wiederholbarkeit für eine breite Palette von Wafer-Tests und messtechnischen Messungen zu bieten. Das METROLOGY MX 203-8-37-Q ist in der Lage, integrierte Schaltungen bis zu 8 Zoll Waferwaage zu testen. Es umfasst anspruchsvolle Softwareprogramme, mit denen Benutzer eine Vielzahl verschiedener Wafer, Substrate und Dioden analysieren und verwalten können, sowie programmspezifische Parameter. Neben seinen Testmöglichkeiten bietet die METROLOGY E + H METROLOGY MX 203-8-37-Q auch eine Reihe leistungsstarker Kalibrier-, Diagnose- und Analysefunktionen. Es verfügt über eine mehrachsige Rückkopplungseinheit und eine Kalibrierauflösung von 1000 A/D-Schritten. Dies gewährleistet eine optimale Genauigkeit und Wiederholbarkeit für eine Vielzahl unterschiedlicher Messungen. Die METROLOGY MX 203-8-37-Q ist auf die hohen Anforderungen der Halbleiterindustrie ausgelegt. Es ist mit einem langlebigen, nicht reflektierenden Aluminiumkörper konstruiert, um die empfindlichen Komponenten vor der Umwelt zu schützen. Es ist auch in der Lage, Temperaturschwankungen von 25 ° C bis 80 ° C und Schwingungsschwankungen zu handhaben. Um ein Höchstmaß an Sicherheit und Schutz zu gewährleisten, ist es mit einer Reihe integrierter Sicherheitssysteme wie Brandschutzeinrichtungen und elektromagnetischen Störfiltern ausgestattet, um EMV-Strahlung zu beschränken. Insgesamt ist die E + H METROLOGY E + H METROLOGY MX 203-8-37-Q eine hocheffiziente, präzise und zuverlässige Wafertest- und Messtechnik-Maschine, die zuverlässige Ergebnisse liefert. Die robuste Konstruktion, die eingebauten Sicherheitssysteme und die vielfältigen Funktionen machen es zu einer idealen Wahl für eine breite Palette von Halbleiterprozesstechnik-Anwendungen.
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