Gebraucht E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q #293813904 zu verkaufen
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ID: 293813904
Wafergröße: 6"-8"
Wafer measurement systems, 6"-8"
Capacitive sensors
(2) Heavy steel plates
(3) Resting pins for measurement
Vacuum chuck
Maximum measuring time per wafer: 5 Seconds
Radio Sector 232 Communication (RS-232) interface
Operating System (OS): Windows NT 4.0
PC.
Das E + H METROLOGY E + H METROLOGY MX 204-8-37-Q ist ein fortschrittliches, berührungsloses 3D-Messsystem, das sich gut für Wafertests und Messtechnik eignet. Es ist ein ultra-hochauflösendes 3D-Messtechnik-Instrument, das eine Laser-Scan-konfokale Technologie verwendet, um hochgenaue Ergebnisse zu liefern. Das Instrument wurde entwickelt, um Strukturen und Oberflächen im Nanometerbereich mit außergewöhnlicher Präzision zu messen. Das E + H METROLOGY MX 204-8-37-Q ist mit einer Kombination aus Hard- und Software in der Lage, ganze Oberflächen mit extrem hoher Auflösung zu scannen. Das Gerät ist in der Lage, Messungen von Dicke, Oberflächenprofil und Rauheit sowie hochauflösende Einzelpunktmessungen durchzuführen. Es kann auch Unregelmäßigkeiten wie Einschlüsse und Poren erkennen, sowie Muster auf Wafermustern mit großer Präzision und Genauigkeit messen. Das E + H METROLOGY E + H METROLOGY MX 204-8-37-Q verfügt über mehrere Positioniergeräte. Dazu gehören eine motorisierte X-Achse unterhalb des Abtastkopfes, eine Y-Stufe zum Scannen bis 500 mm und eine Z-Stufe, die das Scannen großer Strukturen über der Y-Stufe ermöglicht. Darüber hinaus verfügt das Instrument über ein optisches Zoomobjektiv mit einem hochauflösenden Videomikroskop, mit dem es sehr detaillierte Funktionen mit höchster Genauigkeit scannen kann. Darüber hinaus verfügt das E + H METROLOGY MX 204-8-37-Q über eine automatisierte Fokusfunktion, die zuverlässige und stabile Messungen in jeder Tiefe gewährleistet. Das Instrument bietet zudem eine äußerst benutzerfreundliche Software, mit der der Benutzer das System schnell und einfach an seine Bedürfnisse anpassen und einrichten kann. Darüber hinaus bietet die Software leistungsstarke Analysefunktionen, die es dem Benutzer ermöglichen, detaillierte Informationen über die Oberflächen- und Strukturbedingungen zu erhalten. Insgesamt ist die E + H METROLOGY E + H METROLOGY MX 204-8-37-Q eine ausgezeichnete Wahl für die berührungslose 3D-Messtechnik von Wafern und anderen sehr kleinen, komplexen Strukturen und Oberflächen. Seine hochauflösenden Scanfunktionen, kombiniert mit seiner automatisierten Fokusfunktion und leistungsstarker Software, machen es zu einer der besten Optionen für Wafertests und Messtechnik.
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