Gebraucht E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q #9234106 zu verkaufen
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ID: 9234106
Weinlese: 2005
Wafer measurement system
Square / Pseudo-square: 125-156 mm
Gauge type: MX 204-8-25-q
Thickness range: 200 - 600 μm
Real: 180 - 600 μm
CE Marked
2005 vintage.
Die E + H METROLOGY E + H METROLOGY MX 204-8-37-Q ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die für die Produktion und Inspektion von High-End-Wafern ausgelegt ist. Es verfügt über einen erweiterten Software-Algorithmus, der eine Vielzahl von Defekten und Diskrepanzen in der Waferoberfläche erkennen kann, einschließlich Gruben, Kratzer und andere Oberflächenunregelmäßigkeiten. Das System kann auch eine schlechte Abbildung kritischer Punkte auf dem Wafer erkennen. Das E + H METROLOGY MX 204-8-37-Q verfügt über einen doppelseitigen Scangerätekopf, der ein unabhängiges Scannen beider Seiten eines Wafers ermöglicht. Es hat auch einen Hochleistungslaser, der eine hochauflösende Oberflächenmessgenauigkeit von 0,0001 Mikrometer bietet. Jedes Feature ermöglicht eine genaue Anwendung der endlichen Fähigkeitsanalyse, Messung der Messgröße, Analyse der Prozessfähigkeit und Prozesssteuerung in einer Vielzahl von Anwendungen. Die E + H METROLOGY E + H METROLOGY MX 204-8-37-Q kommt auch mit einer Vielzahl von erweiterten Funktionen, die es eine dynamische und fähige Maschine machen. Dazu gehört eine leistungsfähige Analysesoftware, die eine fortschrittliche Analyse und statistische Auswertung von Oberflächenmesstechnik-Daten ermöglicht. Es verfügt auch über ein Reparaturwerkzeug zur Beseitigung von Bildern mit Defekten, die durch metallische oder andere Verunreinigungen, Schmutz oder Partikel auf der Waferoberfläche verursacht werden. Darüber hinaus verfügt es über eine Produktionskontrollsoftware, die die Verfolgung und Steuerung des Produktionsprozesses ermöglicht und es dem Benutzer ermöglicht, Fehler zu erkennen und zu minimieren. Darüber hinaus kann die E + H METROLOGY MX 204-8-37-Q sowohl manuelle als auch automatisierte Wafer-Handhabung erleichtern und eine optimale Flexibilität ermöglichen. Es kommt mit einem arbeitskoordinierten Gerät, wie ein Roboter, für Wafer Positionierung und Beladung. Es verfügt auch über ein Temperaturüberwachungswerkzeug und eine 3D-Übersetzungsstufe, um eine genaue und effiziente Inspektion und Messung zu bieten. Die E + H METROLOGY E + H METROLOGY MX 204-8-37-Q bietet überlegene Wafer-Inspektions- und Messtechnik-Fähigkeiten, die ein Höchstmaß an Waferproduktion und -inspektion ermöglichen. Mit seinem fortschrittlichen Software-Algorithmus, dem doppelseitigen Scan-Asset-Head, dem leistungsstarken Laserstrahl, der Produktionskontrollsoftware, den manuellen/automatisierten Wafer-Handhabungsfunktionen, dem Temperaturüberwachungsmodell und der 3D-Übersetzungsstufe ist das Gerät in der Lage, Fehler und Abweichungen zu erkennen und zu beheben.
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