Gebraucht E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q #9234107 zu verkaufen

Die E + H METROLOGY E + H METROLOGY MX 204-8-37-Q ist eine fortschrittliche Wafer-Prüf- und Messtechnik, die zur Inspektion und Charakterisierung von Großwafern verwendet wird. Diese Plattform ermöglicht es Benutzern, Fehler oder Verunreinigungen auf Wafern sowie die Eigenschaften der zugrunde liegenden Schnittstellen schnell und genau zu erkennen und zu analysieren. Das System umfasst ein eingebautes optisches Mikroskop und eine integrierte ultrapräzise Messtechnik, die präzise Messungen in einer Vielzahl von Wafergrößen ermöglicht. Die optische Einheit verwendet eine automatisierte Fokusmaschine und automatische Kalibrierung, die genaue und zuverlässige Messungen ermöglicht. Es kann auch bis zu 100x Vergrößerungen messen, so dass es für alle Arten von Wafern geeignet. Daten werden mit einem Datenerfassungsmodul gesammelt, das mit einer Vielzahl von Geräten wie Bildverarbeitungssystemen, Messtechnik-Lösungen und digitalen Bildgebungssystemen verbunden werden kann. Die Messtechnik liefert genaue Ergebnisse mit einer Kreisringgenauigkeit von 0,02 µm und einer Positioniergenauigkeit von 0,2 µm. Darüber hinaus ist dieses Werkzeug entwickelt, um mehrere Proben jeder Größe zu behandeln, einschließlich Wafer mit Größen bis zu 300mm, die eine genaue Messung und Analyse auch der kleinsten Wafer ermöglichen. MX 204-8-37-Q verfügt über eine benutzerfreundliche Oberfläche und ein intuitives Asset zur einfachen Datenerfassung. Über die GUI können Benutzer den Datenerfassungsprozess überwachen und Parameter anpassen. Es ist kompatibel mit fast allen Computersystemen, einschließlich Windows, Mac OS X und Linux. Das Modell unterstützt auch USB und Ethernet-Verbindungen, so dass Benutzer leicht mit dem Instrument und anderen Instrumenten im Netzwerk kommunizieren können. Die leistungsstarke Leistung und die schnelle Analyse der E + H METROLOGY E + H METROLOGY MX 204-8-37-Q macht es zu einer idealen Wahl für jede Wafer-Test- und Messtechnik-Umgebung. Diese Anlage integriert sich problemlos in bestehende Messnetze und liefert zuverlässige Daten zur zuverlässigen Wafer-Pegelmessung und Charakterisierung.