Gebraucht E+H METROLOGY MX 204-8-37-Q #9234110 zu verkaufen

Das E + H METROLOGY E + H METROLOGY MX 204-8-37-Q ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die mit fortschrittlicher Technologie aufgebaut wurde und es ermöglicht, komplexe Wafer und andere Komponenten in der Halbleiterindustrie zu messen und zu analysieren. Dieses System ist für konsistente, hochpräzise und genaue Messungen ausgelegt, die sowohl für Dünnschicht- als auch für komplexe Oberflächenmessungen erforderlich sind. Die E + H METROLOGY MX 204-8-37-Q-Einheit verwendet eine konfokale Messtechnik zur genauen Messung von 3D-Oberflächentopographie-Merkmalen wie vertikaler Überhang und Stufenhöhenvariation mit ausgezeichneter Präzision und Auflösung. Die Maschine ist in der Lage, Wafer bis 200 mm Durchmesser zu messen und verfügt über einen Schnellwechselhalter für schnelle und zuverlässige Substratwechsel. Darüber hinaus kann die Messstation die Verwendung mehrerer Objektive und Sondenkonfigurationen aufnehmen, um spezifische Testanforderungen zu erfüllen. Das Werkzeug verfügt außerdem über eine Drehstufe, die speziell für die schnelle und genaue Messung sowohl von ebenen als auch von Stufenflächen ausgelegt ist. Es ist mit einer Vielzahl von optischen Systemen, wählbaren Mikromanipulationsstufen und einer ausgeklügelten Mustererkennung ausgestattet, um die Identifizierung, Auswahl und Dimensionierung spezifischer Merkmale und Messungen zu automatisieren. Das Modell umfasst ein Hochgeschwindigkeits-Bildaufnahmemodul mit einer High-End-Videokamera, die an einen leistungsstarken PC angeschlossen ist und es Benutzern ermöglicht, hochauflösende Daten in einer Vielzahl von Formaten zu erfassen und zu speichern, wodurch die Übertragung und Analyse von Ergebnissen vereinfacht wird. Darüber hinaus integriert es eine hochmoderne Programmoberfläche, die die Erstellung dynamischer und interaktiver Benutzeroberflächen für Präzisionsmessungen vereinfacht. Insgesamt ist die E + H METROLOGY E + H METROLOGY MX 204-8-37-Q eine effektive Wafer-Prüf- und Messtechnik, die in der Lage ist, hochpräzise, wiederholbare Messungen mit überlegener Genauigkeit anzubieten. Mit seinem breiten Spektrum an Funktionen und fortschrittlicher Technologie kann dieses System eine ideale Lösung für jede Wafer-Test- und Messtechnik-Anwendung bieten.