Gebraucht E+H METROLOGY MX203-6 #9198431 zu verkaufen

Die E + H METROLOGY E + H METROLOGY MX203-6 Wafer Testing and Metrology Equipment ist ein führendes, hochgenaues System zur Messung des Profils und der Größe von integrierten Schaltungschips. Das Gerät nutzt ein proprietäres optisches Loup, um eine hohe Genauigkeit in den Chipabmessungen zu gewährleisten. Die Optik ist manuell einstellbar mit anpassbaren Optionen für Chipgrößen, einschließlich großer Waferbereiche. Die Maschine weist einen zweistufigen messtechnischen Workflow für die Waferprofil-Messtechnik auf, wobei der erste Schritt darin besteht, die Wafergrenzen relativ zur Chipgröße zu messen und die topologischen Merkmale des Wafers genau zu charakterisieren. Ein zweiter Schritt des Workflows ist der Charakterisierung der einzelnen Schaltungen des Chips und ihrer jeweiligen Abmessungen gewidmet, was eine möglichst hohe Genauigkeit ermöglicht. E + H METROLOGY MX 203-6 verwendet ein modernes optisches Sensorwerkzeug, um das Profil des Chips zu messen. Das Asset ist in der Lage, den Winkel, die Breite, die Tiefe und die Höhe des Chipprofils von einem beliebigen Punkt innerhalb des Waferbereichs aus zu erfassen, was es zu einem idealen Modell für große Waferbereiche macht. Darüber hinaus kombiniert das Gerät seine hochgenaue Optik mit fortschrittlichen Algorithmen, um die Schichten, Größen und Formen des Chips genau zu erkennen. Mit der fortschrittlichen optischen Hohlraumtechnologie bietet MX203-6 Wafer Testing and Metrology System Genauigkeit auf wenige Nanometer. Mit dieser Technologie kann das Gerät sogar ein einzelnes Nanometer Variation in jeder Ecke des Wafers erkennen. Dies macht die Maschine äußerst nützlich bei der Untersuchung auf Fehler oder andere Unregelmäßigkeiten, die durch konventionelle Techniken schwer zu erkennen wären. Das Tool ist auch mit einer Vielzahl von automatisierten Funktionen ausgestattet, wie automatische Verstärkung und Neuausrichtung, sowie eine Vielzahl von Bildanalyse-Tools, die verwendet werden können, um das Chip-Profil zu messen. Darüber hinaus verfügt das Asset über einen komfortablen Selbstkalibriermechanismus, der den Setup-Prozess vereinfacht. Das E + H METROLOGY MX 203-6 Wafer Testing and Metrology Model bietet Chipherstellern ein Werkzeug zur genauen Messung von Waferprofil und -größe sowie zur Erkennung von Fehlern. Mit seiner fortschrittlichen Optik und den automatisierten Funktionen bietet die Ausrüstung hohe Genauigkeit und Komfort und ist somit eine ideale Wahl für Chiphersteller.