Gebraucht E+H METROLOGY MX203 #9227878 zu verkaufen

E + H METROLOGY E + H METROLOGY MX203 ist eine hochmoderne Wafer-Prüf- und Messtechnik, die für schnelle und genaue Messungen von Wafern entwickelt wurde. Es verwendet eine einzigartige Kombination von optischen und physikalischen Techniken, um genaue Messungen der Waferdicke, des Krümmungsradius, der Neigung und anderer Eigenschaften in einem zerstörungsfreien Prozess zu erhalten. Das System verwendet ein proprietäres Design, bestehend aus einem zweiachsigen motorisierten Goniometer, das als Mittel zur Positionierung des Wafers dient, und einem optischen Sensor, der die Messungen erfasst und aufzeichnet. Der optische Sensor besteht aus einem Paar vertikaler und horizontaler Laser, die das Höhenprofil und die Krümmung des Wafers messen. Dies bietet eine zerstörungsfreie, genaue und wiederholbare Möglichkeit, die Form und Topographie des Wafers zu messen. Um die Genauigkeit der Messungen zu gewährleisten, ist das Gerät mit einem integrierten Kalibrierverfahren ausgestattet, das eine Referenzprobe verwendet. Dies ermöglicht präzise Messergebnisse, unabhängig von den Umgebungsbedingungen. Die E + H METROLOGY E + H METROLOGY MX 203 verfügt zudem über eine leistungsstarke eingebaute Messtechnik-Software, die die vom optischen Sensor erfassten Daten verarbeitet und die Ergebnisse in Echtzeit analysiert und grafisch darstellt. Dadurch kann der Anwender die Eigenschaften des Wafers kontrolliert und interaktiv überwachen. Darüber hinaus ist das E + H METROLOGY MX203 mit einem motorisierten Vakuum-Probenhalter ausgestattet, der die Sicherung des Wafers während der Messungen unterstützt, um Fehlausrichtungen zu vermeiden und höchste Präzision und Zuverlässigkeit der Ergebnisse zu gewährleisten. Die Maschine enthält auch eingebaute Funktionen, die dazu beitragen, die für Messungen erforderliche Zeit zu reduzieren und einen schnellen Einrichtvorgang bereitzustellen. Insgesamt ist das E + H METROLOGY MX 203 ein fortschrittliches Wafertest- und Metrologiewerkzeug, das präzise, zerstörungsfreie und wiederholbare Messungen der Eigenschaften von Wafern ermöglicht. Die leistungsstarke Messtechnik-Software, der integrierte Vakuum-Probenhalter und das Kalibrierverfahren ermöglichen es Benutzern, die Parameter eines Wafers schnell und genau zu messen.