Gebraucht EPIPLUS / ETAMAX Plato #9260679 zu verkaufen

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ID: 9260679
Wafergröße: 2"-8"
Weinlese: 2010
PL Mapping system, 2"-8" X-Y Stage Cassette loading Flat zone finder (2) Cassettes for 2"-8" wafer Spectrometer: Wavelength range: 420 nm Hardware pixel resolution: 0.13 nm/pixel Resolution: 0.5 mm for 2" 1 mm of 4" 2 mm for 8" Thickness: Measurement method: Optical interference by reflection Accuracy / Reproducibility: 3% for GaN film Photo Luminescence (PL): Measurement items: WP (Peak) WD (Dominant) Integrated and peak intensity FWHM Accuracy: 5% (Peak intensity / Integrated intensity) <1 nm (Wp / FWHM) Intensity measurement: High sensitive photo detector (3) Pumping lasers: 266, 405, 532 Bowing measurement: Reproducibility: ±5 um Measuring range: 20 - 4000 um Cap (2" Profile): <10 sec Bowing mapping Input voltage: 220 V Current: 30 A Compressed air: 0.2~0.4 MPa 2010 vintage.
EPIPLUS/ETAMAX Plato ist eine von der KLA Tencor Corporation entwickelte Wafer-Prüf- und Messtechnik. Es wurde entwickelt, um Halbleiterbauelemente auf Halbleiterscheiben zu überprüfen und zu messen, um Qualität und Zuverlässigkeit dieser Bauelemente zu gewährleisten. Dieses System verwendet eine Reihe fortschrittlicher Inspektions- und Messtechniken, um den Wafer genau zu messen, zu profilieren und zu inspizieren sowie eine Vielzahl von Parametern, die damit zusammenhängen. ETAMAX Plato Einheit besteht aus mehreren Kernelementen: eine Reihe von automatisierten Wafer-Bühne, erweiterte Optik, und Bordwerkzeuge, um den Wafer zu analysieren. Die automatisierten Waferstufen dienen dazu, den Wafer genau unter der Optik zu positionieren, die dann kritische Bilder des Wafers zur Analyse erfasst. Die fortschrittliche Optik, die für die Bildgebung und das Scannen der Wafer verantwortlich ist, kann auf eine Vielzahl von optischen Fähigkeiten konfiguriert werden, um messtechnische Anforderungen und Inspektionsziele zu erfüllen. Zu den Onboard-Tools auf der EPIPLUS Plato-Maschine gehört eine fortschrittliche, hochmoderne Software, die den Prozess der Fehlererkennung automatisiert. Diese Software kann verschiedene Arten von Waferdefekten anhand von Bildmustern wie Knoten, Hohlräumen, Mikrocracks und anderen Oberflächenanomalien identifizieren. Darüber hinaus bestehen die Onboard-Tools auch aus Messtechnik-Scannern und Videoskopen, die es Anwendern ermöglichen, verschiedene Parameter eines Wafers zu messen, wie CD (Critical Dimension) -Messungen, CD-basierte Erträge, Overlay-Messungen und mehr. Plato Werkzeug ist mit einem modularen Aufbau ausgestattet, so dass eine Vielzahl von Werkzeugen und Komponenten leicht hinzugefügt oder entfernt werden können, um die Kundenanforderungen zu erfüllen. Dadurch kann das Asset in hohem Maße an die Bedürfnisse eines beliebigen Waferentwicklungsprozesses angepasst werden. Der modulare Aufbau bietet zudem eine große Flexibilität bei der Modellkonfiguration und Skalierbarkeit. EPIPLUS/ETAMAX Plato Ausrüstung ist bekannt für seine fortschrittliche Leistung und ultra-hohe Genauigkeit. Es hat sich bewährt, zuverlässige und wiederholbare Messergebnisse zu liefern, die dazu beitragen, das Risiko von Fehlern zu reduzieren und die Prozessausbeuten zu verbessern. Insgesamt ist ETAMAX Plato ein fortschrittliches Wafertest- und Metrologiesystem, das von der KLA Tencor Corporation entwickelt wurde. Seine enorme Designflexibilität, fortschrittliche Komponenten und zuverlässige Ergebnisse machen es zu einer beliebten Wahl für Waferinspektions- und Messtechnikprozesse.
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