Gebraucht FILMETRICS F10-ARc #293645023 zu verkaufen

Die Filmtrics FILMETRICS F10 ist eine hochmoderne Wafertest- und Messtechnikplattform, die für eine fortschrittliche Halbleiterprozesssteuerung in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es bietet eine Kombination verschiedener messtechnischer Fähigkeiten wie Kartierung, optische Inspektion, spektrosopische Ellipsometrie und Streuung sowie einzigartige messtechnische Fähigkeiten für Partikel, die eine fortschrittliche Prozesskontrolle ermöglichen. Es ist eines der fortschrittlichsten Wafer-Prüf- und Messtechnik-Systeme auf dem Markt und bietet eine breite Palette von Fähigkeiten. Die Filmtrics FILMETRICS F 10 basiert auf einer Kombination aus fortschrittlicher Optik, Vision und spektroskopischen Technologien. Es verfügt über eine einzigartige Vision-Plattform namens „Vision64 Vision Equipment“ und umfasst ausgefeilte Bildgebungsfunktionen in Kombination mit fortschrittlichen Bildverarbeitungsalgorithmen, um eine detaillierte Bildanalyse für die Prozesssteuerung auf Waferebene zu ermöglichen. Darüber hinaus ist das System mit einer Steuerungssoftware „LCM Metrology“ ausgestattet, die eine benutzerfreundliche und intuitive Steuerungssoftware zur Steuerung der gesamten Einheit bietet. Die Filmtrics F10 verfügt über eine vollautomatische, periodische und statische optische Inspektionsmöglichkeit. Die Maschine verfügt über zwei große Sichtfenster, die eine Inspektion von bis zu vier ganzen Wafern mit mehreren Prozessschritten und Schichten gleichzeitig ermöglichen. Das Werkzeug integriert auch Mikrometer-Abtastoptiken für detaillierte Oberflächenmessungen zur Wafer-Level-Prozesssteuerung. F 10 ist in der Lage, ein breites Spektrum von Prozeß- und Strukturparametern auf Waferebene mit seinen einzigartigen messtechnischen Fähigkeiten zu charakterisieren. Es kann Filmdicke und CD-Variation bis zu 6,5 Mikrometer in der Auflösung messen, zusammen mit Brechungsindex und Extinktionskoeffizientenmessungen, um Materialeigenschaftsschwankungen besser zu beurteilen. Es hat auch die Fähigkeit, wiederholbare und reproduzierbare optische Dicke einer Vielzahl von Materialien (einschließlich Epi-Schichten) mit den optionalen Elypsometer-Verbesserungen zu messen. Die Anlage integriert auch die neuesten Technologien für Partikelverunreinigungsanalysen, Partikelgrößenanalysen, Morphologieanalysen und Fehleranalysen. In Kombination mit den oben genannten messtechnischen Fähigkeiten bietet FILMETRICS F10 umfassende Prozess- und Qualitätskontrollfunktionen auf Waferebene. Die Filmtrics FILMETRICS F 10 bietet auch mehrere Sampling-Modi, in denen Benutzer bis zu vier Wafer gleichzeitig auswählen können, um Prozess- und Strukturparameter zu messen, wodurch Benutzer die Flexibilität erhalten, ihren Prozess zu optimieren und zu verbessern. Das Modell integriert auch eine Beispielortungsausrüstung, die die Bildverarbeitung verwendet, um genaue und konsistente Musterorte zu erhalten. Abschließend ist die Filmtrics F10 ein leistungsfähiges und fortschrittliches Wafer-Prüf- und Messtechnik-System, das überlegene Prozesskontrolle und Qualitätssicherung bietet. Seine einzigartige Kombination aus Messtechnik und Teilchenmesstechnik macht es ideal für die Halbleiterprozesssteuerung.