Gebraucht FILMETRICS F10-RT #293654461 zu verkaufen

FILMETRICS F10-RT ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die in der Lage ist, eine Vielzahl von Merkmalen auf einem Halbleiterwafer mit hoher Genauigkeit und Präzision zu messen. Es ist ein berührungsloses optisches System, das eine Kombination aus Spektrophotometrie und Ellipsometrie verwendet, um sowohl die Dicke des Wafers als auch den Abstand zwischen den Schichten zu messen. Das Gerät besteht aus einer hochauflösenden optischen Plattform, einer Controller-Einheit und einer PC-basierten Software-Suite. Die optische Plattform von F10-RT bietet 10x -100x Vergrößerung mit einer sehr detaillierten, ausgewogenen Farbansicht von Waferoberflächen. Die Plattform verwendet auch patentierte Technologien wie spektrale Bildgebung, mechanische Bewegungssteuerung und proprietäre FILMETRICS F10-RT Optik, um konsistente und zuverlässige Messungen zu gewährleisten. Die Controller-Einheit von F10-RT bietet eine benutzerfreundliche Schnittstelle, automatisierte Datenerfassung und -speicherung sowie benutzerdefinierte Befehle. Es ist mit Touchscreen-Displays und einem einfach zu bedienenden Drehwähler ausgestattet, um eine schnelle und präzise Auswahl zu ermöglichen. Die Maschine wird durch ihre gleichzeitige Erfassung von Schichten und Dicke als außerordentlich kurze Taktzeit beschrieben. Die PC-basierte Software-Suite von FILMETRICS F10-RT ist das fortschrittlichste Modul des Tools. Es umfasst Unterstützung für eine Vielzahl von Anwendungen, wie Filmanalyse, Querschnittsscannung, Topographie und Bildgebung. Diese Software unterstützt die Steuereinheit und ermöglicht eine präzise Wafer-Charakterisierung. Darüber hinaus ist die Software mit einer Fourier Transform Infrared (FTIR) Option ausgestattet, um die physikalischen Eigenschaften des Wafers schnell und präzise zu messen. F10-RT Anlage eignet sich besonders für den Einsatz in der Halbleiterherstellung und Qualitätskontrolle. Die empfindlichen berührungslosen Erkennungsfunktionen ermöglichen es dem Modell, eine Vielzahl von Eigenschaften sowohl auf einschichtigen als auch auf mehrschichtigen Wafern genau zu messen. Darüber hinaus sorgen seine Leistungs- und Datenerfassungsfähigkeiten dafür, dass die Produktionserträge stabil bleiben und Wafer hohe Fertigungsanforderungen erfüllen.