Gebraucht FILMETRICS F10 #293626260 zu verkaufen

FILMETRICS F10 Wafer Testing and Metrology Equipment liefert umfassende Daten über Pre-CMP-, Post-CMP- und Post-Etch-Strukturen und liefert überlegene Prozesskontrolle und Transformation. Das System verwendet die spektroskopische Ellipsometrie mit einer einzigen Wellenlänge, um gleichzeitig Filmdicke, Brechungsindex und optische Konstanten von Filmen auf Wafern zu messen. Sowohl Dicken als auch optische Konstanten für dielektrische Filme bis zu 0,3 nm sind messbar; für metallische Folien können Dicken bis zu 1 nm gemessen werden. Das Gerät ist hochgenau und wiederholbar, mit einer Analysewiederholbarkeit von weniger als 2% und einer Dickenwiederholbarkeit von 0,5 nm. FILMETRICS F 10 verwendet einen berührungslosen Überwachungsmodus, der eine zerstörungsfreie Rückkopplung von der Oberfläche des zu prüfenden Materials ermöglicht. F10 bietet auch Echtzeit-Feedback, so dass Messungen registriert und automatisch in situ gemeldet werden können, was zeitraubende Labormessungen reduziert. Sein breiter Messbereich ermöglicht es F 10, eine Reihe von Filmen aus Dielektrika, Oxiden, Nitriden, Metalloxiden, Metallnitriden und Metallen mit verschiedenen Dicken und Zusammensetzungen zu messen. Die Maschine kann Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 150 mm unter unterschiedlichen Einfallswinkeln aufnehmen. Moleküle und Moleküle zum Scannen von Ladungsoberflächen können im Laufe der Zeit verfolgt und verfolgt werden, was eine fortschrittliche Prozessüberwachung und Prozessanpassung ermöglicht. Darüber hinaus eignet sich FILMETRICS F10 aufgrund seines überlegenen Signal-Rausch-Verhältnisses besonders gut für raue Oberflächen, wie sie auf CMP-Schichten zu finden sind. FILMETRICS F 10 bietet eine benutzerfreundliche, intuitive Benutzeroberfläche, mit der Benutzer Messungen schnell einrichten und starten können. Zur weiteren Vereinfachung des Analyseprozesses können verschiedene Ausgabeformate bereitgestellt werden. Außerdem verfügt das Tool über 21C- und ISO- 17025/17034-Zertifizierungen, die es für den Einsatz in regulierten Branchen konform machen. Zusammenfassend ist F10 Wafer Testing and Metrology Asset in der Lage, Wafer und Filmstrukturen detailliert zu messen und zu analysieren, was eine überlegene Prozesskontrolle und Transformation ergibt. Seine Genauigkeit, Wiederholbarkeit und berührungslosen Überwachungsfunktionen sowie sein breites Spektrum an relevanten Zertifizierungen machen es zum perfekten Werkzeug für alle Aspekte der Wafer- und Filmmessung und -kontrolle.