Gebraucht FILMETRICS F20-UV #293592882 zu verkaufen

FILMETRICS F20-UV Wafer Testing and Metrology Equipment bietet eine einzigartige Kombination aus optischer Bildgebung, Messtechnik und Charakterisierung auf Waferebene. Dieses System ist für die Hochdurchsatz-, automatisierte Test- und Messtechnik von Dünnschichten auf Halbleiterscheiben zur Gerätecharakterisierung oder Prozessentwicklung konzipiert. Es ist in der Lage, Variationen der Dicke von Submikrometern, Mikrometern und Nanometern von dünnen Filmen auf Halbleiterscheiben in einer Vielzahl von Formaten sowie mit beliebigen Mustergrößen, Formen und undurchsichtigen Masken zu messen. FILMETRICS F 20 UV enthält eine wellenlängenabstimmbare Lasereinheit, die mit einem proprietären, nicht interferometrischen Spektralreflektometer und einer bildgebenden Maschine konfiguriert ist, die eine schnelle Messung der Dicke opaker Filmstrukturen ermöglicht. Dieses Reflektometer und bildgebende Werkzeug arbeitet über das sichtbare und ultraviolette Spektrum und bietet eine flexible Lösung für verschiedene Verfahren. Außerdem, der Anlagengebrauch hochauflösende Hochleistungsbildaufbereitungstechnologie, um niedrig ausfallende Frequenzen und Ertragdefektinformationen zu entdecken. Das Modell enthält auch ein Computersoftware-Paket, das eine einfach zu bedienende Schnittstelle ist, die ideal ist, um Waferdaten schnell und effizient zu analysieren. Dieses Softwarepaket wurde entwickelt, um eine intuitive grafische Darstellung der Daten anzubieten, sodass Benutzer interessante Funktionen überwachen, vergleichen und hervorheben können. Die Software verfügt auch über 2D- und 3D-Graphing-Fähigkeit, bietet erweiterte Datenanalyse und Visualisierung. In Bezug auf die Leistung liefert F20-UV eine hohe Auflösung, schnelle Messraten und Wiederholbarkeit der Filmdicke und Rauheit auf einer Vielzahl von Wafertypen. Seine Genauigkeit und Benutzerfreundlichkeit machen es zu einer idealen Wahl für die Gerätekennzeichnung und Prozessentwicklung. Die Ausrüstung eignet sich auch für rauen Umgebungsbetrieb und ist somit für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet. Insgesamt F 20 UV Wafer Testing and Metrology System ist eine fortschrittliche und zuverlässige Einheit entwickelt, um Hochdurchsatz, automatisierte Tests und Messtechnik von dünnen Schichten auf Halbleiterscheiben zu ermöglichen. Mit seiner Kombination aus wellenlängenabstimmbarer Lasermaschine, bildgebender Technologie und benutzerfreundlicher Software bietet dieses Tool eine umfassende Lösung, um genaue und wiederholbare Messungen der Filmdicke und Rauheit auf Wafern zu ermöglichen.