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FORCE Step-4 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik, die umfassende physikalische, elektrische und optische Analysedaten von fortschrittlichen Halbleiterbauelementen liefert. Das System umfasst zwei Hauptkomponenten: die Präzisionsbewegungssteuerung und die fortschrittliche Messtechnik. Das Bewegungssteuerungswerkzeug besteht aus zehn dreiachsigen Stufen, die Position, Drehung und Größe steuern. Es gewährleistet eine präzise Ausrichtung und Abtastung sowie eine robuste Handhabung während des gesamten Prozesses der Messung mehrerer Parameter aus einer einzigen Probe. Die fortschrittliche Metrologie umfasst das Elektronenstrahlmikroskop, die Laserscaneinheit, den elektrischen Laserprofiler, das optische Spektrometer und das Spin-Coating-Modul. Das Elektronenstrahlmikroskop liefert hochauflösende Bilder des zu testenden Wafers und kann sowohl zur Messung der Oberflächentopographie als auch zur Untersuchung auf Defekte verwendet werden. Die Laserscaneinheit ermöglicht eine schnelle Oberflächenabbildung und eine vollständige Charakterisierung von Oberflächenmerkmalen. Der elektrische Laserprofiler ermöglicht die Messgenauigkeit von Sub-Mikrometern und eignet sich besonders zur Charakterisierung feiner Spannungsgradienten oder zur Verbesserung der Auflösung von Oberflächenkarten. Das optische Spektrometer kann verschiedene Materialschichten auf der Oberfläche des Wafers charakterisieren. Schließlich wird das Spin-Coating-Modul verwendet, um gleichmäßige Materialschichten auf den Wafer aufzubringen, wodurch eine weitere Analyse dieser Schichten ermöglicht wird. Darüber hinaus umfasst Step-4 zahlreiche Softwarefunktionen, die eine automatisierte, genaue und wiederholbare Analyse von Wafern ermöglichen. Diese Tools reichen von grundlegenden statistischen Analysetools wie Datenfilterung bis hin zu komplexen Analysen, die mit einer Referenzdatenbank korreliert sind. Die Software ist hocheffizient und benutzerfreundlich, mit einer modernen grafischen Oberfläche und optimierten Messverfahren. FORCE Step-4 ist auf maximale Zuverlässigkeit und Wiederholbarkeit der Wafertest- und messtechnischen Ergebnisse ausgelegt. Es entspricht den Branchenstandards für die Datenqualitätskontrolle und kann problemlos in jede Produktionslinie integriert werden. Dieses Modell ist ein leistungsstarkes und wesentliches Werkzeug für die Felder von Halbleiter Hochleistungsgerätentwicklung und Produktion, und wird bereits in Hauptindustrien überall auf der Welt verwendet.
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