Gebraucht FOUR DIMENSIONS 280 #200802 zu verkaufen

FOUR DIMENSIONS 280 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung zur Analyse der Dünnschichtabscheidung und Substratcharakterisierung. Das System ist in der Lage, hochpräzise Messungen der Gleichmäßigkeit, Dicke, Rauheit, Spannung und Zusammensetzung von dünnen Schichten zu liefern. Das Gerät ist mit leistungsstarken Funktionen ausgestattet, wie Multisensor-Oberflächencharakterisierung, mehrdimensionales Scannen und erweiterte Datenerfassungs- und Summierungsalgorithmen. Das Kernelement von 280 ist die X-Y-Stufe für präzise Bühnenbewegungen zur Probenahme in einer Vielzahl von Substraten und Probengrößen. Die fortschrittliche Stufenmanagementmaschine wird von einem High-End-Controller zur Verfügung gestellt. Das Werkzeug beinhaltet auch 6-Achs-Oberflächenscanfähigkeit, die eine detaillierte Charakterisierung von Dünnschichtoberflächen und Zusammensetzung mit Hilfe einer ausgeklügelten Messtechnik-Software ermöglicht. Die Anlage verfügt über mehrere verschiedene Sensoren, wie Quarzdetektoren, Photodioden, Ellipsometrie-Detektoren und optische Spektrometer. Quarzdetektoren messen die Dicke und Zusammensetzung dünner Filme, während Photodioden das von der Probe reflektierte Licht messen. Die Ellipsometrie-Detektoren messen die Phase und Polarisation des Lichtes aus der Probe, was zur Messung von Spannung und Kristallinität in dünnen Filmen nützlich ist. Die optischen Spektrometer messen die Abmessungen und das Reflexionsvermögen der Probenoberfläche. FOUR DIMENSIONS 280 verfügt über Datenerfassungs- und Analysetools mit hochleistungsfähiger grafischer Hardware und umfassenden Softwaretools. Das Modell umfasst auch fortgeschrittene Datennachbearbeitungs- und Bildrekonstruktionswerkzeuge zur weiteren Charakterisierung des Dünnfilms oder Substrats. Die aus 280 Geräten gewonnenen Daten können in verschiedenen Auswertungsformen wie grafisch, textlich, statistisch und numerisch dargestellt werden. Die umfassenden grafischen Darstellungsmöglichkeiten des Systems ermöglichen es dem Benutzer, die gesammelten Daten einfach und schnell zu interpretieren. Anhand dieser Daten können Entscheidungen über Mustereigenschaften, Prozessparameter oder die Durchführung von Korrekturmaßnahmen getroffen werden. Zusammenfassend ist FOUR DIMENSIONS 280 Wafer-Prüf- und Messtechnik-Einheit eine wertvolle Lösung für die präzise Dünnschicht- und Substratcharakterisierung. Mit seinen fortschrittlichen Datenerfassungs- und Analysewerkzeugen sowie seinen Multisensor-Charakterisierungs-, Scan- und Nachbearbeitungsfähigkeiten ist die Maschine ein effektives und zuverlässiges Werkzeug zur Analyse und Analyse der Dünnschichtabscheidung und Substratcharakterisierung.