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FOUR DIMENSIONS 280 ist eine fortschrittliche Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung. Es bietet präzise berührungslose Messungen von Wafereigenschaften wie Topographie, Overlay, Linienbreiten, Mikrofehleranalyse, Lithographie, Fehlerüberprüfung und andere kritische Parameter der Geräteherstellung. 280 System ist für Hochgeschwindigkeits-Wafer-Messtechnik ausgelegt. Es verfügt über einen modularen Aufbau, der es ermöglicht, die anspruchsvollsten Messanforderungen mit seinem optischen Mehrstrahlkopf, der Optik mit mehreren Reflektoren und den hochauflösenden Bildgebungsfunktionen zu erfüllen. Das Gerät erreicht eine Genauigkeit von bis zu 0,1 Nanometer bei der Messung von Linienbreiten und bis zu 1 Nanometer bei der Überlagerungsmessung. Sein automatisiertes Scan-Muster sorgt für wiederholbare Messergebnisse. Die fortschrittlichen messtechnischen Funktionen der Maschine werden durch ihre fortschrittliche Software weiter verbessert. Es enthält Programme für die korrelative Messtechnik, die optische und SEM-Daten zu einem einzigen Bericht kombinieren, sowie erweiterte Fehleranalysen mit Tools wie Z-Profiling und Autofokus. Diese erweiterte Funktionalität beschleunigt den Messprozess und verbessert die Messgenauigkeit. VIER DIMENSIONEN 280 Werkzeug bietet auch nahtlose Integration mit SPC-Systemen, so dass Bediener Wafer schnell gegen Spezifikation auswerten und notwendige Korrekturen vornehmen können. Seine grafische Benutzeroberfläche macht es den Bedienern einfach, das Asset zu nutzen und die gewünschten Messergebnisse zu erhalten. Darüber hinaus hilft die fortschrittliche Alarmausrüstung des Modells den Betreibern, kritische Prozessvariablen zu überwachen und bei Abweichungen Korrekturmaßnahmen zu ergreifen. 280 ist ideal für automatisierte Wafertests mit hochpräzisen und hochauflösenden Bildgebungsfunktionen. Sein modularer Aufbau ermöglicht es, eine Reihe von Anforderungen an die Wafertests zu erfüllen, während seine robusten messtechnischen Funktionen genaue und wiederholbare Messungen gewährleisten. Die fortschrittliche Software und die intuitive grafische Benutzeroberfläche des Systems machen es einfach zu bedienen und die Produktivität der Bediener zu maximieren. FOUR DIMENSIONS 280 ist eine effiziente und zuverlässige Messtechnik zur Analyse komplexer Wafereigenschaften.
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