Gebraucht FOUR DIMENSIONS FPP 100 #9123948 zu verkaufen

VIER DIMENSIONEN FPP 100 Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung ist ein vielseitiges Gerät, das eine Kombination aus spezialisierter Hard- und Computersoftware verwendet, um die Eigenschaften von Wafern und anderen Materialien im Nanometermaßstab zu messen. Das System ist in der Lage, Aufgaben wie Fehlerinspektion, Dickenmessung, Oberflächentopographie und Messungen kritischer Abmessungen (CD) durchzuführen. FPP 100 besteht aus einem hochauflösenden Mikroskop, einer anspruchsvollen Rasterstufe und einer Messplattform, die leicht für verschiedene Substrate optimiert werden kann. Im Zentrum von FOUR DIMENSIONS FPP 100 steht ein hochauflösendes Mikroskop, das das Rückgrat der Einheit bildet und mit einer automatisierten Schaltmaschine ausgestattet ist. Das Mikroskop kann schnell zwischen zwei verschiedenen Vergrößerungen wechseln, so dass der gesamte Wafer schnell und effizient inspiziert wird. Darüber hinaus liefert das Mikroskop Bilder mit einer Auflösung von bis zu +/-0,5 µm mit ausreichender Klarheit, um Langstreckenverteilungen richtig zu beurteilen. Um die Oberflächentopographie des Wafers genau zu messen, verwendet FPP 100 eine anspruchsvolle Scanstufe, die als XYZ Scanning bekannt ist. Dieses Werkzeug ermöglicht präzise Bewegungen des Wafers in x-, y- und z-Richtung, um sicherzustellen, dass die Topographie in winzigen Schritten genau abgetastet wird. Weiterhin nutzt die Abtasteinrichtung eine relativ geringe Vergrößerung, so daß die Antriebskräfte gering bleiben und somit die Gefahr von Schäden bei der Messung verringert wird. Schließlich ist FOUR DIMENSIONS FPP 100 mit einer ausgeklügelten Messplattform ausgestattet, um die seitlichen und vertikalen Eigenschaften des Wafers präzise und effizient zu messen. Die Plattform ist mit spezialisierten Werkzeugen wie Dunkelfeld/Hellfeld visuelle Inspektion, Transmissionselektronenmikroskopie (TEM), spektroskopische Ellipsometrie und verschiedene andere Techniken ausgestattet. Es ist sogar für die Fehlerinspektion mit spezialisierten Algorithmen ausgestattet. Zusammenfassend ist das Wafer-Test- und Metrologiemodell FPP 100 ein leistungsstarkes Gerät, das ausgereifte Hardware und Software verwendet, um die Eigenschaften von Wafern und anderem Material zu messen. Durch den Einsatz spezialisierter Bildgebungs- und Scansysteme ist FOUR DIMENSIONS FPP 100 in der Lage, Wafer-Oberflächentopographie, Dicke und kritische Abmessungen genau zu messen. Darüber hinaus ist das Gerät mit verschiedenen Mess- und Inspektionstechniken ausgestattet, was es zu einem vielseitigen Werkzeug macht, das eine Vielzahl von Messaufgaben im Nanometerbereich bewältigen kann.