Gebraucht FRT MicroProf 200 #9219844 zu verkaufen

FRT MicroProf 200 liefert präzise, hochauflösende Messungen von Oberflächentopographie, Textur und anderen Oberflächenmerkmalen für Wafer. Dieses Gerät verwendet eine automatisierte XY-Stufe mit Präzisions-Luftlager für eine reibungslose und stabile Bewegung. Die mitgelieferte hochauflösende Mikroskoplinse sorgt für genaue Messungen bis zum Sub-Mikron-Niveau bei minimaler Verzerrung. Das System ist für Wafer-Tests und Messtechnik konzipiert und ermöglicht eine präzise visuelle Inspektion von Photomasken- und Waferoberflächen. Die integrierte Software ermöglicht die Datenerfassung aus verschiedenen Videoquellen und Laserscannern und verfügt über leistungsstarke Analyse- und Bildgebungsfunktionen. Dieses Gerät verfügt über eine automatisierte XY-Stufe mit einem vierrädrigen Antriebsmechanismus für eine reibungslose Bewegung und einem präzisen Luftlager für präzise Positionierung und Nachführung. Die Bühne ist so programmiert, dass die Probe automatisch zu vordefinierten Vergrößerungen, Belichtungseinstellungen usw. bewegt wird, wodurch der manuelle Eingriff entfällt. Es enthält auch eine hochauflösende Mikroskoplinse, um feinere Details auf der Oberfläche der Probe genau zu erfassen. Darüber hinaus verfügt MicroProf 200 über ein leistungsfähiges Softwarepaket zur Datenerfassung, Analyse und Bildverarbeitung. Die Daten können aus verschiedenen Videoquellen, einschließlich CCD- und CMOS-Sensoren, sowie Laserscannern erfasst werden. Die Software bietet eine mehrkanalige Analyse von bis zu 100 Kanälen zur schnellen Analyse von Daten. Es verfügt auch über leistungsstarke Bildverarbeitungsalgorithmen, um klare und genaue Bilder der Probe zu erhalten. FRT MicroProf 200 ermöglicht eine präzise und zuverlässige Messung von Oberflächentopographie, Textur und anderen Oberflächenmerkmalen auf Wafern. Diese Maschine ist für den Einsatz in einer Produktionsumgebung mit langlebiger Konstruktion, zuverlässigem Betrieb und einfacher Wartung konzipiert. Seine vielseitige Software macht es ideal für die Messung und Inspektion von Photomasken und Wafern und bietet eine effiziente und genaue Lösung für die Waferproduktionsindustrie.