Gebraucht IMS LVIS-III #9134183 zu verkaufen

IMS LVIS-III Wafer Prüf- und Messtechnik Ausrüstung ist entworfen, um hochgenaue und wiederholbare Messungen sowohl von dünnen Wafer und Gerätestrukturen sowie Ausbeute und Zuverlässigkeit Probleme zu bieten. Es ist ein etabliertes und zuverlässiges Werkzeug für eine Vielzahl von Anwendungen in der Halbleiterindustrie, wie Fehleranalyse, Prozessüberwachung und Messtechnik. LVIS-III besteht aus mehreren einzigartigen Funktionen wie einem hochauflösenden Vollfeld-Bildgebungssystem, einer dicht temperaturstabilisierten Umgebung und einem geräuscharmen Betrieb. Die Vollfeldabbildungseinheit erreicht Auflösungen bis zu 0,5um, um Merkmale auf dem Wafer genau zu messen. Darüber hinaus bietet die Maschine eine spezielle bildgebende Funktion, um mehrere Bilder in einem größeren Bild auszurichten, um ein größeres Sichtfeld bereitzustellen. Die präzise temperaturgesteuerte Umgebung gewährleistet die stabilsten Bedingungen für genaue Messungen, während der rauscharme Verstärker die Genauigkeit weiter verbessert. IMS LVIS-III verfügt über umfassende messtechnische Fähigkeiten, um eine Vielzahl von Merkmalen und Defekten zu erkennen und zu analysieren. Es ist in der Lage, auch sehr kleine Merkmale auf dem Wafer zu untersuchen und zu isolieren, wie erhöhte Partikel, Kratzer, Oberflächenstruktur oder Submikron-Unterflächendefekte. Es ist auch mit fortschrittlichen Fehleranalyse-Tools ausgestattet, wie Fehleranalyse Querschnitt, Scan-Röntgenfluoreszenz, und Rasterionenmikroskopie, um verschiedene Fehler genau zu analysieren. Das LVIS-III-Tool ist für eine schnelle und zuverlässige Datenerfassung konzipiert. Dadurch entfällt die physische Handhabung von Wafern, was zu erheblichen Zeit- und Kosteneinsparungen führen kann. Die Anlage ermöglicht auch die gleichzeitige Messung von bis zu 25 Standorten zur Beschleunigung der Wafermessung und die Extraktion von Messungen zur Durchführung einer statistischen Analyse, wodurch dem Anwender ein komplettes Analysepaket bereitgestellt wird. Insgesamt ist das IMS LVIS-III Wafertest- und Metrologiemodell ein leistungsstarkes Werkzeug in der Halbleiterindustrie. Seine hochauflösende Bildgebung, seine temperaturstabile Umgebung und seine erweiterten messtechnischen Fähigkeiten machen es zu einer idealen Wahl für Wafertests, Zuverlässigkeitsanalysen und Prozessüberwachung.