Gebraucht IMS LVIS-III #9144218 zu verkaufen

IMS LVIS-III ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik, die hochpräzise Wafer-Prüf- und Messtechnik-Lösungen für industrielle und photovoltaische Anwendungen bietet. Die Plattform wurde entwickelt, um Wafer Homogenität zu zertifizieren und zu überprüfen und sicherzustellen, dass die Erträge erhalten bleiben. Das Design des Systems ermöglicht eine Vielzahl von Substratoptionen und bietet eine hohe Steuerung für die Ausrichtung der Ausrüstung. Das Gerät ist mit einer Vier-Achsen-Einheit ausgestattet, die es Anwendern ermöglicht, die Prüffläche an verschiedene Wafer- und Substrattypen anzupassen. Zur Homogenitätsprüfung umfasst LVIS-III zwei unabhängige Laserstationen, die die Wafer vor und nach der Prüfung messen. Die Software bietet drei primäre Betriebsarten: Scannen, übersetzen und fokussieren. Der Scan-Modus führt eine schnelle Oberflächenabtastung des Wafers durch, um das Vorhandensein einer Ungleichmäßigkeit zu analysieren und zu messen, wodurch eine Variation der Oberflächeneigenschaften festgestellt wird. Der Translatemodus verwendet die vierachsige Maschine, um die Probe in linearen Bewegungen zu bewegen, wodurch ein Vergleich zwischen Bereichen ermöglicht wird. Der Fokusmodus wird verwendet, um den Fokus des Laserstrahls einzustellen und die entsprechenden Positionen für den Scan- und Translationsmodus zu bestimmen. Das Werkzeug umfasst ferner einen automatisierten Wafer-Mapping-Prozess, der eine Reihe von interaktiven grafischen Darstellungen von Messdaten zur weiteren Analyse erzeugt. Darüber hinaus umfasst die Plattform modernste Automatisierungssysteme, um einen erfolgreichen Produktionsprozess zu gewährleisten. Diese Funktionen erhöhen auch den Waferdurchsatz und ermöglichen die Verwendung des Materials in hohen Produktionsumgebungen. IMS LVIS-III implementiert auch Fehlerreduzierungsverfahren, um die Genauigkeit der Ergebnisse zu gewährleisten. Es enthält eine grafische Bildausrichtungsmethode, um Fehler aufgrund von Fehlstellungen verschiedener Wafer-Abbildungspunkte zu beseitigen. Zusätzlich wird eine der Probe zur Verfügung gestellte Temperatur gemessen und durch das Modell überwacht, um die thermische Stabilität in den Ergebnissen zu berücksichtigen. Insgesamt ist LVIS-III eine leistungsstarke Wafer-Prüf- und Messtechnik für industrielle und photovoltaische Anwendungen. Es ermöglicht Unternehmen, die Wafer-Homogenität zu bewerten und die Erträge so effizient wie möglich zu halten. Mit seinen umfassenden Automatisierungssystemen und Optimierungstechniken ist IMS LVIS-III ein leistungsstarkes Produktionswerkzeug zur Überwachung und Aufrechterhaltung der Produktqualität in der Elektronik- und Photovoltaikindustrie.