Gebraucht KLA / TENCOR 5100 XP #293727707 zu verkaufen
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ID: 293727707
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
Overlay measurement system, 8"
Wafer loader system:
Transport system: (2) Cassette loader / unloader
Pre-alignment: OF Detection function
Control console:
Menu terminal
Image display terminal
5501 Analysis station
DEC VLC 4000
RAM: 16 MB
QIC Tape drive: 320/525 MB
Floppy Disk Drive: 3.5"
Image hard copy
Printer
SECS
Patlite
Hard Disk Drive (HDD): 2 GB
Wafer thickness: 725 µm
Minimum die size: 3 mm
Maximum die size: 50 mm
Measurement throughput: <85 Sheets / hour
Clean dry air:
Flow rate: 84.9 l/min
Pressure 603 kg/cm² - 7.7 kg/cm²
Tube, 1/4"
(3) Vacuums:
Hg: 635 mm
Flow rate: 28.3 l/min
Tube, 1/4"
Exhaust:
Duct system: 14.5"
Flow rate: 250 cfm
Missing parts
Temperature: 19°C - 25°C
Power supply: 200 VAC, 20 A, Single phase, 50/60 Hz
1996 vintage.
KLA/TENCOR 5100 XP ist eine hochentwickelte Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung für den Einsatz in High-End-Forschungs- und Entwicklungslabors. Das System verwendet fortschrittliche Spektroskopietechnologien, um die physikalischen Eigenschaften von Wafern zu messen. Das Gerät bietet genaue Messungen von Parametern wie optischem und elektrischem Widerstand, Mikrostruktur und Foliendicke, so dass Forscher die Herstellung modernster mikroelektronischer Produkte optimieren können. Die Maschine verfügt über ein leistungsstarkes Inspektionswerkzeug, das in der Lage ist, Wafer innerhalb eines 12-Zoll-Durchmessers mit Genauigkeit und Empfindlichkeit auf 0,1 Mikrometer abzubilden. Darüber hinaus kann das Asset die gesamte Oberfläche eines einzelnen Wafers in weniger als wenigen Minuten schnell scannen und analysieren, was es zu einer idealen Wahl für schnell drehende Prozesse macht. KLA 5100 XP verfügt auch über zwei unabhängige motorisierte Stufen für die Positionierung von Wafern. Die Stufen sind sowohl für lineare als auch für Drehbewegungen geeignet und bieten den Forschern die Flexibilität, mehrere Proben in einer Sitzung zu inspizieren. Die Stufen sind hochgenau, mit Auflösungen bis zu einem Mikron. Das Modell verfügt zudem über ein präzises optisches Mikroskop und eine Hochleistungs-Bildaufnahmekamera. Die Kamera ist in der Lage, Bilder einer einzelnen Oberfläche oder andere einzelne Merkmale wie feine Linien oder Schnitttiefen bei Auflösungen bis zu 0,1 Nanometer zu erfassen. Das Mikroskop bietet Forschern die Möglichkeit, Proben eingehend zu analysieren und wertvolle Informationen zur weiteren Optimierung mikroelektronischer Prozesse bereitzustellen. Weitere Merkmale der TENCOR- 5100XP sind eine automatisierte Wafer-Oberflächeninspektion, ein automatisiertes Deflektometrie-Datenerfassungssystem zur Messung der Wafer-Zentralisierung und eine automatisierte Partikelprüfeinheit zur Bestimmung der Partikelgröße und des Standorts. Abschließend ist 5100XP eine fortschrittliche Wafer-Prüf- und Messtechnik-Maschine, die den anspruchsvollsten Forschungs- und Entwicklungsanforderungen gerecht wird. Das Tool bietet Forschern die Flexibilität, Wafereigenschaften schnell und präzise zu messen, um ihre Prozesse zu optimieren und mikroelektronische Komponenten höchster Qualität herzustellen.
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