Gebraucht KLA / TENCOR 5100 XP #293727708 zu verkaufen

ID: 293727708
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
Overlay measurement system, 8" Wafer loader system: Transport system: (2) Cassette loader / unloader Pre-alignment: OF Detection function Control console: Menu terminal Image display terminal 5501 Analysis station DEC VLC 4000 RAM: 16 MB QIC Tape drive: 320/525 MB F.D Drive: 3.5" Image hard copy Printer SECS Patlite Hard Disk Drive (HDD): 2 GB Wafer thickness: 725 µm Minimum die size: 3 mm Maximum die size: 50 mm Measurement throughput: <85 Sheets / hour Clean dry air: Flow rate: 84.9 l/min Pressure 603 kg/cm²-7.7 kg/cm² Tube, 1/4" (3) Vacuums: Hg: 635 mm Flow rate: 28.3 l/min Tube, 1/4" Exhaust: Duct system: 14.5" Flow rate: 250 cfm Temperature: 19°C-25°C Power supply: 200 VAC, 20 A, Single phase, 50/60 Hz Missing parts 1996 vintage.
KLA/TENCOR 5100 XP ist eine hochmoderne Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung für Halbleiterhersteller. Dieses System ermöglicht eine effiziente und genaue Prüfung und Sondierung von Wafern, um Fehler und andere Prozessunregelmäßigkeiten zu erkennen. Das Gerät verfügt über ein großes Sichtfeld, das eine schnelle Visualisierung und Inspektion von Waferoberflächen mit enorm hoher Auflösung ermöglicht. Unter Verwendung einzigartiger optischer Konfigurationen ist KLA 5100 XP in der Lage, Datenpunkte bis zu einer Größe von 15 μ m zu erfassen und zu messen, was eine eingehende Analyse von Mikro- und Nanostrukturen ermöglicht. Darüber hinaus nutzt das FPD (Fringe Pattern Detection) -Werkzeug der Maschine fortschrittliche Signalverarbeitungsalgorithmen, um Mikrostrukturen und Randmuster zu analysieren, um selbst die subtilsten strukturellen Defekte zu erkennen. Eine breite Palette von Messfähigkeiten sind verfügbar, einschließlich Overlay- und ESCp-Analyse, Oberflächenmorphologie-Analyse, Ätztiefe, Form und Rundheit und Spurenanalyse. Darüber hinaus verfügt das Tool über ein anpassbares grafisches Dashboard zur Unterstützung der Entscheidungsfindung. Die Anlage ist mit einem High-Speed-Wafer-Handling-Modell ausgestattet, das Wafer mit flachen und abgeschrägten Oberflächen aufnehmen kann. Ein ergonomisches Design sorgt für einen effizienten und mühelosen Betrieb, und die gekrümmte Sichtbasis schafft eine komfortable Arbeitsumgebung für Bediener. Ein eingebauter Sicherheitsmechanismus verhindert den zufälligen Bruch zerbrechlicher Wafer. TENCOR 5100XP ist für Produktions- und Forschungsumgebungen optimiert und ermöglicht eine einfache Integration in bestehende Prozesse. Die leicht verständliche Benutzeroberfläche und das intuitive grafische Befehlsset ermöglichen eine mühelose Bedienung und Dateninterpretation, die in Kombination mit optimierten und flexiblen Workflow-Funktionen die Ausrüstung ideal für erfahrene und Anfänger machen. Insgesamt ist die KLA 5100XP ein umfassendes Wafer-Prüf- und Messtechnik-System, das ideal für die Bedürfnisse der Halbleiterindustrie geeignet ist. Es bietet beispiellose Präzision und Zuverlässigkeit, unterstützt durch eine Reihe fortschrittlicher Funktionen, um genaue und wertvolle Informationen zu liefern.
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