Gebraucht KLA / TENCOR 5100 XP #9248760 zu verkaufen

KLA / TENCOR 5100 XP
ID: 9248760
Wafergröße: 8"
Overlay measurement system, 8".
KLA/TENCOR 5100 XP Wafer Testing and Metrology Equipment ist ein vielseitiges und leistungsstarkes System zur Messung und Prüfung von Halbleiterscheiben. Das Gerät ist in der Lage, eine Vielzahl von Parametern zu messen, um Wafer genau zu charakterisieren und elektrische Leistung und Zuverlässigkeit zu bewerten. KLA 5100 XP Maschine besteht aus vier Teilsystemen - Bildmesstechnik, elektrische Messung, Fehlerüberprüfung und Analytik. Das Bildmesstechnikwerkzeug dient zur Abtastung von Wafern und zur Erkennung von Defekten in Form von Partikeln, Kratzern und anderen Oberflächenanomalien. Dieses Sub-Asset ist auch in der Lage, Bildsegmentierung, Analyse und Benotung der Fehler durchzuführen. Das Teilmodell Elektrische Messung (Electrical Measurement) dient zur Messung und Analyse elektrischer Parameter einschließlich Widerstand und Kapazität über den Wafer. Diese Untereinrichtung liefert auch wichtige Informationen wie Gatebreite, Dotierungskonzentrationen und Transistorleckstrom. Das Teilsystem Defect Review ist für die Überwachung und Überprüfung elektrischer und optischer Verifikationsergebnisse konzipiert, wodurch fehlerhafte Elemente und Strategien zur Behebung von Problemen schnell identifiziert werden können. Das Gerät ist auch in der Lage, Fehlerbilder und Testdaten zu sortieren und zu analysieren, um genaue und wiederholbare Ergebnisse zu erzielen. Schließlich wird die Analytics-Untermaschine verwendet, um fortschrittliche Analysen zu generieren. Das Werkzeug kann Fehler identifizieren und Einblick in verschiedene Aspekte des Wafer-Herstellungsprozesses geben. Es kann auch eine statistische Analyse von Wafertests und messtechnischen Daten liefern. Abschließend ist TENCOR 5100XP Wafer Testing and Metrology Asset ein vielseitiges und leistungsstarkes Modell, das eine Reihe von Funktionen für Wafertests und Messtechnik bietet. Das Gerät ist in der Lage, eine breite Palette von elektrischen und optischen Parametern zu messen und bietet fortschrittliche Analysen zur Verfolgung und Verbesserung des Prozesses.
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