Gebraucht KLA / TENCOR 5100 #9293246 zu verkaufen

KLA/TENCOR 5100 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung zur Verbesserung der Produktion von hochreinen Substraten für die Halbleiterindustrie. Dieses fortschrittliche automatisierte System implementiert eine Reihe von Prozessen und Systemen, die die Reinheit eines Substrats genau messen und bewerten. Die Einheit KLA 5100 verwendet lasergestützte Scansysteme, um hochpräzise Messungen der Eigenschaften eines Substrats zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt es über eine fortschrittliche zerstörungsfreie Prüfmaschine, die mit einem Elektronenstrahl Funktionen von bis zu 10 Nanometern erkennt. Das Werkzeug verfügt über eine automatisierte Kalibrierung, um die Genauigkeit der Messung und Genauigkeit der Testergebnisse zu gewährleisten. Ein weiteres Feature von TENCOR 5100 Asset ist ein proprietäres Fehlererkennungsmodell, das die Kombination aus AOI-Tools und erweiterten Fehlerinspektionsalgorithmen verwendet, um Prozessanomalien zu erkennen. Das Gerät kann auch mehrere Substrate gleichzeitig verfolgen, um die Genauigkeit der gelieferten Ergebnisse zu gewährleisten. Um die Systemleistung zu optimieren, implementiert 5100 eine Dynamically Reconfigurable Automation-Plattform, die schnelle und effiziente Änderungen in Testrezepten ermöglicht. Diese Plattform ermöglicht es Benutzern auch, Testbedingungen anzupassen, um die Prozessanforderungen durch die Angabe verschiedener Größen und Mengen von Testdaten zu erfüllen. Darüber hinaus unterstützt das Gerät eine breite Palette von Schnittstellen, einschließlich der Vor-Ort-Steuerung der Maschine über Ethernet oder USB. Darüber hinaus ist KLA/TENCOR 5100 Tool auch für hochauflösende Bildgebung konzipiert. Die Anlage bietet hochauflösende Bilder von Substraten in Standard-Reflexions-, Messtechnik- oder Dunkelfeldbeleuchtungsmodi. Es unterstützt auch Scannen im CCD-Format oder in einer 5000-Pixel-Serie. Darüber hinaus ermöglichen seine Bildverarbeitungsfunktionen das Vernähen mehrerer Bilder und deren Vernähung auf ein einziges Sehziel. Zur Verbesserung der Staub- und Verunreinigungsempfindlichkeit umfasst das Modell eine Dual-Level-Partikelerkennung, die eine genaue Identifizierung und Kategorisierung von Partikeln ermöglicht. Das Gerät verfügt zudem über eine mehrachsige Stufe, die einen flexiblen Inspektionsweg bietet und mit einem automatisierten Verlust an Haltung und Prozesssteuerung ausgestattet ist. Insgesamt bietet die Einheit KLA 5100 anspruchsvolle Mess- und Fehlererkennungsfunktionen, kombiniert mit automatisierter Kalibrierung, und optimiert ihre Leistung für die Produktion von hochreinen Substraten. Seine fortschrittlichen Bildgebungs- und Partikelidentifizierungssysteme machen es zu einer leistungsfähigen Wahl für die High-End-Halbleiterindustrie.