Gebraucht KLA / TENCOR 5100 #9351407 zu verkaufen

KLA/TENCOR 5100 Wafer Prüf- und Messtechnik Ausrüstung ist eine vielseitige Plattform entworfen, um Qualitätskontrolle und Prozesskontrolle innerhalb der mikroelektronischen Schaltkreis Fertigungsindustrie bieten. Das System ist mit modernster Optik zur genauen Messung kritischer Abmessungen und Funktionsgrößen auf Wafern ausgestattet. Es beinhaltet ein automatisiertes Messtechnik-Modul zur schnellen Analyse komplexer Muster in Wafern mit hoher Auflösung, mit hohem Durchsatz und zuverlässiger Prozesskontrolle. KLA 5100 verwendet eine automatisierte optische Mikroskopieeinheit zur Inspektion von Mustern auf einer Vielzahl von Substraten, einschließlich Plasmaätzern entwickelter Wafer und Resistschichten. Es verfügt über einen hochauflösenden Detektor und eine ausgeklügelte Software zur Identifizierung kleiner Defekte wie Gruben und Hohlräume sowie präzise Mikroskalenmessungen. Eine mikro-elektro-mechanische Maschine (MEMS) Testköpfe auf dem Werkzeug ermöglichen eine schnelle, genaue Sondierung und Prüfung von elektrischen Signalen auf bestimmten Proben auf Wafern. Diese MEMS-Technologie dient zur genauen Messung der Funktionalität und elektrischen Eigenschaften integrierter Schaltungen. TENCOR 5100 verfügt auch über einen Multi-Sensor Asset, um die Dicke, Reflektivität und Topographie von Waferoberflächen zu messen, zusammen mit einer chemisch-mechanischen Polieroption (CMP), die die Gleichmäßigkeit von Oberflächen prüft, die durch chemisch-mechanische Poliertechniken erzeugt werden. Darüber hinaus enthält das Modell ein optisches Streumessgerät zur Messung der Gleichmäßigkeit der Schichtdicken und ein NUSM-Werkzeug (Non-Uniformity-of-Surface Measurement) zur Analyse mikroskopischer Unregelmäßigkeiten auf der Oberfläche des Wafers. 5100 ist in der Lage, Wafer über einen Bereich von Abmessungen von weniger als 1 mm bis maximal 450 mm zu testen. In Bezug auf die Datenanalyse können die Geräte verwendet werden, um Prozesssteuerungsdiagramme und -werte zu erstellen, um die Prozessstabilität im Laufe der Zeit zu messen. Darüber hinaus bietet das System eine intuitive Benutzeroberfläche, die sich ideal für die Entwicklung von Forschungs- und Entwicklungsanwendungen innerhalb der Halbleiterindustrie eignet. KLA/TENCOR 5100 Wafer-Prüf- und Messtechnik-Einheit ist eine vielseitige Plattform, die entwickelt wurde, um hohen Durchsatz, genaue Messung und zuverlässige Prozesssteuerung für die Halbleiterindustrie zu liefern. Es beinhaltet eine Vielzahl modernster Technologien zur Analyse komplizierter Muster und elektrischer Eigenschaften auf Wafern und zur Bereitstellung quantitativer Daten, die für die Prozesssteuerung erforderlich sind. Die Maschine ist in der Lage, Waferabmessungen von weniger als 1 mm bis 450 mm zu messen, was sie zu einer idealen Wahl für die Analyse einer Vielzahl von Substraten macht.