Gebraucht KLA / TENCOR 5200XP #9118489 zu verkaufen

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ID: 9118489
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
Overlay measurement system, 8" Hardware: Chuck 8" Autoloader (2) 8" open cassette load ports Main VME card cage Motor VME card cage Flotation module LINNIK and KLAASP Power module Hardware configuration: Main console Handler: dual open cassette (2) Load ports: 8" open cassette Signal tower GEM/SECS Network Standard wafers: DSW75.1 Main VME card cage: CPU board Memory board Video (frame grabber) board I/O board PZT controller board Motor VME card cage: Motor CPU board Stepper driver board 1-4 Encoder interface board Stage: XYT stage Z Motor Host chuck Z PZT X PZT Y PZT PM target Floatation module: (4) Isolators (3) Proximity sensors PID board LINNIK and KLAASP: Arc lamp housing Dual aperture LLG LINNIK camera PIN diode array P PZT Shutter KLAASP camera Power module: Power transformer AC compartment Main DC power supply Arc lamp power supply Vacuum and pressure air inlet (3) Vacuums CDA Software: Windows NT 4.0 Software 14.60.02 GEM/SECS KLASS 4.1.1.1 Computer configurations: Pentium II 400 MHz CPU 128M Ram (2) 9G hard drive disk Floppy drive CD ROM Tape driver Monitor Thermal printer Keyboard/track ball Options: UPS Facilities: 225VAC, 50/60 Hz input power 25"Hg input vacuum 97-110 PSI input CDA Manual 1997 vintage.
KLA/TENCOR 5200XP ist eine hochmoderne Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung für mehr Leistung und Zuverlässigkeit. Es ist wesentlich für die Entwicklung und Herstellung von Halbleiterbauelementen und einer Vielzahl von Materialien und Substraten, wie Silizium, Galliumarsenid und Dünnschichten. KLA 5200XP verfügt über eine einzigartige patentierte Designarchitektur, die ein mehrschichtiges makroskopisches Bildgebungssystem, eine leistungsstarke Bildaufnahme- und Bildverarbeitungseinheit, eine fortschrittliche Interferometriemaschine und eine vollständig anpassbare Messtechnik-Software umfasst. Dieses Tool verfügt über hochauflösende bildgebende Unterstützung und Messfunktionen, die automatische Mustertopographie-Plotting und Overlay-Mapping umfassen. Es verwendet einen zweidimensionalen Fehlererkennungsalgorithmus mit hoher Pixelauflösung und einem 16-Bit-Signal-Rausch-Verhältnis und eine 4-Megapixel-CCD-Kamera. Wellenfrontaberration und Zernike-Zersetzung sind ebenfalls enthalten, um Faktoren wie Oberflächenrauheit, Ebenheit, Macht, Krümmungsradius, Defokus, Astigmatismus und Neigung zu messen. Alle Parameter können einfach über eine benutzerfreundliche Touchscreen-Oberfläche eingestellt werden. TENCOR 5200 XP ist mit einem erweiterbaren internen Speicher ausgestattet und kann bis zu 30.000 Bilder speichern. Das Gerät unterstützt sowohl das Datenströmen auf einen externen Computer als auch den eigenständigen Betrieb. Es verfügt auch über ein Autofokus-Asset mit erweiterten automatischen Zoom-, Schwenk- und Neigungsmodi, um die Beispielansicht mit minimalem Aufwand zu optimieren, und das Gerät ist in der Lage, Probengrößen von bis zu 10 Zoll Durchmesser zu messen. Die Installation, Reinigung und Wartung ist aufgrund des variablen Roboter-Probenbehälters einfach und das Modell beinhaltet Trockenpumpen bis zur mittleren Ebene für Umgebungen mit hoher Verschmutzung. Darüber hinaus verfügt 5200XP Wafer-Test- und Messtechnik über Standard-IEEE-Kommunikation sowie eine Reihe weiterer Optionen wie drahtlose Konnektivität, Datenverbindungssicherheit und Remote-Online-Diagnose. KLA/TENCOR 5200 XP ist die ideale Wahl für eine breite Palette von Wafertest- und messtechnischen Anwendungen, einschließlich IC-Charakterisierung mobiler Geräte, Fehleranalyse, Prozessfehlerbehebung und Ertragsanalyse. Es bietet schnellere als je zuvor Leistung und hochgenaue Ergebnisse mit einem beispiellosen Maß an Zuverlässigkeit, was dazu beiträgt, Kosten zu senken und die Geräteerträge zu erhöhen.
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