Gebraucht KLA / TENCOR 5200XP #9118489 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9118489
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
Overlay measurement system, 8"
Hardware:
Chuck 8"
Autoloader
(2) 8" open cassette load ports
Main VME card cage
Motor VME card cage
Flotation module
LINNIK and KLAASP
Power module
Hardware configuration:
Main console
Handler: dual open cassette
(2) Load ports: 8" open cassette
Signal tower
GEM/SECS
Network
Standard wafers: DSW75.1
Main VME card cage:
CPU board
Memory board
Video (frame grabber) board
I/O board
PZT controller board
Motor VME card cage:
Motor CPU board
Stepper driver board 1-4
Encoder interface board
Stage:
XYT stage
Z Motor
Host chuck
Z PZT
X PZT
Y PZT
PM target
Floatation module:
(4) Isolators
(3) Proximity sensors
PID board
LINNIK and KLAASP:
Arc lamp housing
Dual aperture
LLG
LINNIK camera
PIN diode array
P PZT
Shutter
KLAASP camera
Power module:
Power transformer
AC compartment
Main DC power supply
Arc lamp power supply
Vacuum and pressure air inlet
(3) Vacuums
CDA
Software:
Windows NT 4.0
Software 14.60.02
GEM/SECS
KLASS 4.1.1.1
Computer configurations:
Pentium II 400 MHz CPU
128M Ram
(2) 9G hard drive disk
Floppy drive
CD ROM
Tape driver
Monitor
Thermal printer
Keyboard/track ball
Options: UPS
Facilities:
225VAC, 50/60 Hz input power
25"Hg input vacuum
97-110 PSI input CDA
Manual
1997 vintage.
KLA/TENCOR 5200XP ist eine hochmoderne Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung für mehr Leistung und Zuverlässigkeit. Es ist wesentlich für die Entwicklung und Herstellung von Halbleiterbauelementen und einer Vielzahl von Materialien und Substraten, wie Silizium, Galliumarsenid und Dünnschichten. KLA 5200XP verfügt über eine einzigartige patentierte Designarchitektur, die ein mehrschichtiges makroskopisches Bildgebungssystem, eine leistungsstarke Bildaufnahme- und Bildverarbeitungseinheit, eine fortschrittliche Interferometriemaschine und eine vollständig anpassbare Messtechnik-Software umfasst. Dieses Tool verfügt über hochauflösende bildgebende Unterstützung und Messfunktionen, die automatische Mustertopographie-Plotting und Overlay-Mapping umfassen. Es verwendet einen zweidimensionalen Fehlererkennungsalgorithmus mit hoher Pixelauflösung und einem 16-Bit-Signal-Rausch-Verhältnis und eine 4-Megapixel-CCD-Kamera. Wellenfrontaberration und Zernike-Zersetzung sind ebenfalls enthalten, um Faktoren wie Oberflächenrauheit, Ebenheit, Macht, Krümmungsradius, Defokus, Astigmatismus und Neigung zu messen. Alle Parameter können einfach über eine benutzerfreundliche Touchscreen-Oberfläche eingestellt werden. TENCOR 5200 XP ist mit einem erweiterbaren internen Speicher ausgestattet und kann bis zu 30.000 Bilder speichern. Das Gerät unterstützt sowohl das Datenströmen auf einen externen Computer als auch den eigenständigen Betrieb. Es verfügt auch über ein Autofokus-Asset mit erweiterten automatischen Zoom-, Schwenk- und Neigungsmodi, um die Beispielansicht mit minimalem Aufwand zu optimieren, und das Gerät ist in der Lage, Probengrößen von bis zu 10 Zoll Durchmesser zu messen. Die Installation, Reinigung und Wartung ist aufgrund des variablen Roboter-Probenbehälters einfach und das Modell beinhaltet Trockenpumpen bis zur mittleren Ebene für Umgebungen mit hoher Verschmutzung. Darüber hinaus verfügt 5200XP Wafer-Test- und Messtechnik über Standard-IEEE-Kommunikation sowie eine Reihe weiterer Optionen wie drahtlose Konnektivität, Datenverbindungssicherheit und Remote-Online-Diagnose. KLA/TENCOR 5200 XP ist die ideale Wahl für eine breite Palette von Wafertest- und messtechnischen Anwendungen, einschließlich IC-Charakterisierung mobiler Geräte, Fehleranalyse, Prozessfehlerbehebung und Ertragsanalyse. Es bietet schnellere als je zuvor Leistung und hochgenaue Ergebnisse mit einem beispiellosen Maß an Zuverlässigkeit, was dazu beiträgt, Kosten zu senken und die Geräteerträge zu erhöhen.
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