Gebraucht KLA / TENCOR 5200XP #9167259 zu verkaufen

KLA/TENCOR 5200XP ist eine Wafer-Prüf- und Metrologie-Ausrüstung, die Teil der UCK 5200-Linie von Metrologie-Produkten ist, sowie ihre Flaggschiff-Linie von Elektronen-Backscatter-Beugung (EBSD) Systeme. KLA 5200XP wurde speziell für die Produktion von messtechnischen Umgebungen entwickelt und bietet optische messtechnische Fähigkeiten, um die Dicke, Spannung und Struktureigenschaften von Chips oder Wafern schnell zu messen. Das System verwendet einen Hochgeschwindigkeits-Raumlichtmodulator (SLM), um Bilder auf die Waferoberfläche zu projizieren und zu detektieren, wodurch verschiedene Eigenschaften eines Wafers präzise und genau gemessen werden können. Richtungslicht, einschließlich schräges und abgewinkeltes Licht, wird verwendet, um kritische Flächenmessungen zu verbessern und Artefakte zu reduzieren. Um die Genauigkeit und Wiederholbarkeit des Geräts zu verbessern, wird die Lichtquelle ständig über die Waferoberfläche gescannt. TENCOR 5200 XP bietet modernste Systeme, Prozesse und Analysen, um Wafer höchster Qualität zu gewährleisten. Es ist in der Lage, große und kleinere Fehler automatisch zu erkennen und zu diagnostizieren, während kritische Parameter wie Ätztiefe, Formbreite und Dicke, feine Linienbreiten, Spannungsprofile und mehr genau gemessen werden. Darüber hinaus bietet die Maschine eine umfassende Suite an Analysesoftware, mit der Benutzer Aberrationen schnell erkennen, Trends identifizieren und Ursachen von defekten Chips oder Wafern verstehen können. KLA/TENCOR 5200 XP unterstützt parallele Tests, wobei vier unabhängige Messkanäle mehrere Wafer gleichzeitig messen. Die präzise und fortschrittliche optische Ausrichtung sorgt dafür, dass das Werkzeug konstant genaue Daten liefert und ein geringer Stromverbrauch eine hohe Zuverlässigkeit gewährleistet. 5200 XP ist auch in der Lage, eine präzise chromatische Korrektur zu erzielen, die eine höhere Genauigkeit bei der Farbmessung bietet und schnellere Scanzeiten ermöglicht. In der Zusammenfassung ist KLA 5200 XP eine fortgeschrittene Oblatenprüfung und Metrologievermögenswert entworfen spezifisch für Hochleistungsproduktionsumgebungen. Sein hochpräzises optisches Modell, leistungsstarke Analysefähigkeiten und parallele Messkanäle sorgen für präzise und genaue Messungen. Diese Ausrüstung ist in der Lage, kritische Bereiche, einschließlich Ätztiefe, Stanzbreite und Spannungsprofile, schnell und genau zu messen und ist somit eine ideale Wahl für die Herstellung von Chip und Wafer.