Gebraucht KLA / TENCOR 5200XP #9241362 zu verkaufen

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ID: 9241362
Wafergröße: 8"
Overlay measurement system, 8", parts machine Carcass with power supplies Z-Stage X / Y Stage without steppers Encoder Various other components No auto-loader No UI Arc lamp housing (3) Missing micrometers.
KLA/TENCOR 5200XP ist eine fortschrittliche Wafer-Prüf- und Messtechnik, die entwickelt wurde, um den Ertrag zu verbessern, Kosten zu senken und die Prozesssteuerung in der Halbleiterherstellung zu verbessern. Die KLA 5200XP bietet in Kombination mit ihren Softwarepaketen eine Reihe von Lösungen für die Fehlerklassifizierung, Wafer Mapping und Partikeldimensionierung. TENCOR 5200 XP basiert auf dem Design des KLA Scanning Laser Imaging Microscope (SLIM). Dieses System verwendet einen optischen Laserkopf, um eine Probe zu scannen, und ein mechanisches Stadium, um die Probe zu bewegen. Das SLIM besteht aus einer Line-Scan-Lösung und einer Drop-Scan-Lösung, mit der KLA 5200 XP die beste Lösung für fokussierte Ionenstrahl-Bilder (FIB) und optische Bilder bietet. Eine Reihe von CCD-Kameras, Bildprozessoren und Bildrezeptoren sind alle in der Einheit enthalten und ermöglichen eine genaue Datenerfassung und -analyse. 5200XP verfügt auch über mehrere verschiedene Abbildungsmodi wie polarisiertes Licht, Durchlicht, Fluoreszenzlicht und Schrägwinkelabbildung. Dies hilft Benutzern, ein besseres Verständnis der Fehlerklassifizierung, der Wafer-Zuordnung und der Partikelgröße zu erlangen, indem verschiedene bildgebende Lösungen bereitgestellt werden. TENCOR- 5200XP können bis zu 8,5-Zoll-Wafer messen, wodurch die Zykluszeit reduziert wird. Diese Maschine verfügt auch über eine schnelle Mustererkennung Fähigkeit, variable Fehler auf einem Wafer schnell und genau zu erkennen. Weitere automatisierte Prozesse umfassen die Fehlerklassifizierung mittels eingebetteter Algorithmen und Mustererkennungssoftware. Diese KLA/TENCOR 5200 XP bietet Anwendern benutzerfreundliche Software zur Datenanalyse. Darüber hinaus unterstützt 5200 XP auch verschiedene Softwarepakete wie Wafer-Mapping und Fehlersortierung. Dies gibt Anwendern mehr Kontrolle über Fehlerklassifizierung, Partikeloptimierung und Ausbeute. Die KLA/TENCOR 5200XP bietet auch ein automatisiertes statistisches Analysetool, mit dem Anwender Prozesse verbessern, auftretende Probleme erkennen und mögliche Lösungen identifizieren können. Schließlich unterstützt die UCK- 5200XP ein Traceability-Asset, mit dem Benutzer Änderungen und den Zustand ihres Prozesses überwachen können. Dieses Merkmal ist besonders vorteilhaft für die Verbesserung von Prozessstabilität, Ausbeute und Gesamtproduktqualität. Abschließend ist TENCOR 5200 XP ein umfassendes Wafertest- und Metrologiemodell. Es wurde entwickelt, um Anwendern zu ermöglichen, den Ertrag zu verbessern, Kosten zu senken und eine bessere Prozesssteuerung in der Halbleiterherstellung zu erlangen. Das Gerät verfügt auch über eine breite Palette von Funktionen, die es Anwendern ermöglichen, einen besseren Einblick in die Fehlerklassifizierung, Wafer-Mapping und Partikelgröße zu erhalten.
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