Gebraucht KLA / TENCOR 5300 #9047921 zu verkaufen

KLA/TENCOR 5300 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die eine detaillierte Datenanalyse bietet, um sicherzustellen, dass Halbleiterscheiben Spezifikations- und Qualitätsanforderungen erfüllen. Es ist in der Lage, bestimmte Parameter wie KE-Größe, Fehlerdichte, Oberflächenrauhigkeit und andere Eigenschaften zu analysieren. KLA 5300 verwendet fortschrittliche optische Technologie, um hochauflösende Bilder der Wafer zu erzeugen und Daten zu erfassen, die dann analysiert werden, um Defekte und Oberflächenanomalien zu erkennen. Die bildgebenden Funktionen des Systems ermöglichen eine detaillierte Charakterisierung der Gerätefunktionen wie Linienbreite, Kantenrauhigkeit und Anzahl der Öffnungen/Shorts auf jedem Gerät. Das Gerät hilft Waferherstellern, mögliche Probleme zu erkennen, bevor sie teuer werden. TENCOR 5300 kann Risse, Delamination, Partikelkontamination, Schäden und andere Anomalien erkennen, die die Ausbeute oder Leistung von Geräten beeinflussen können. Sie kann auch Bereiche mit zu hohen oder niedrigen Merkmalsgrößen identifizieren, was die Gerätesicherheit beeinträchtigen kann. 5300 ist in der Lage, Merkmale bis zu 45 Nanometer zu messen und Messungen bis zu 6,25 mm ²/s durchzuführen. Es ist auch mit einer Vielzahl von Programmieroptionen ausgestattet, mit denen Benutzer quantitative Messkriterien für bestimmte Gerätetypen festlegen können. Darüber hinaus ist die Maschine in der Lage, sich selbst zu kalibrieren, um die Präzision und Genauigkeit zu verbessern. Das Tool ist auch mit einer Vielzahl von Prozessleitsystemen und Wafer-Management-Software kompatibel, wodurch die Integration in Kundensysteme einfach und effizient ist. Damit haben Anwender die volle Kontrolle über den Wafer-Prüfprozess und überwachen Produktionsmenge und Qualität in Echtzeit. KLA/TENCOR 5300 ist mit Blick auf Zuverlässigkeit gebaut und soll den strengen Anforderungen der Halbleiterindustrie standhalten. Zusammenfassend ist KLA 5300 ein fortschrittliches Gerät für Wafertests und Messtechnik, das ein hohes Maß an Genauigkeit und Zuverlässigkeit bietet. Die optisch basierte Bildgebungstechnologie ermöglicht eine detaillierte Charakterisierung der Gerätefunktionen bis zu 45 Nanometern, während die Programmieroptionen den Benutzern die Möglichkeit bieten, spezifische quantitative Messkriterien festzulegen. Das Modell ist zudem hocheffizient und einfach in bestehende Kundensysteme zu integrieren und somit ideal für Hersteller von Halbleiterscheiben.