Gebraucht KLA / TENCOR 5300 #9112501 zu verkaufen

KLA/TENCOR 5300 ist eine Hochleistungs-Wafer-Prüf- und Messtechnik, die zuverlässige, wiederholbare und genaue Messdaten für die Waferproduktion liefert. Das System ist vollautomatisiert und basiert auf einer Kombination aus linearen und 2D-Bildmessungen und fortschrittlichen Algorithmen und ist damit eine der effizientesten Lösungen für Wafertests und Messtechnik in der Branche. KLA 5300 vereint zwei komplementäre Technologien: optische Wafer-Inspektionen und optische Wafer-Messtechnik. Die optische Wafer-Inspektionsplattform nutzt fortschrittliche Optik- und Bildverarbeitungsalgorithmen, um physikalische Fehler auf Waferoberflächen zu erkennen. Das Gerät kann eine breite Palette von potenziellen Defekten wie Partialen, Kratzern und Verunreinigungen erkennen. Dies trägt zur Sicherstellung der Prozessausbeute und zu einem zuverlässigeren und robusteren Produkt bei. Die Messplattform für optische Wafer soll präzise Maßwerte aus Bereichen auf einem Wafer messen, wie Linienbreiten, Tiefen, Muster und kritische Abmessungen (CDs). Dies geschieht durch eine integrierte, hochautomatisierte Maschine mit fortschrittlichen Algorithmen für schnelle und genaue Messungen. Das Werkzeug unterstützt eine Reihe von Wafern, von Einkristallsubstraten bis hin zu strukturierten Wafern. Eine breite Palette von optischen Konfigurationen wird unterstützt, einschließlich Mikroskope, telezentrische und Rückansichtssysteme, Spektralphotometer und Laserinterferometer. Das Asset integriert auch die neuesten Machine-Vision-Technologien wie Laserstrahlpositionierung, simuliertes Glühen und Autofokus-Funktionen. Die laserbasierten Systeme ermöglichen Hochgeschwindigkeits-Scans und einen schnelleren Gesamtprozessdurchsatz, wodurch Modellausfallzeiten minimiert und die Produktion verbessert wird. Darüber hinaus ist das Gerät mit automatisierten Auditdiensten ausgestattet, um Genauigkeit und Zuverlässigkeit auch nach langen Betriebszeiten zu gewährleisten. Insgesamt ist TENCOR 5300 ein robustes Wafer-Prüf- und Messtechnik-System, das entwickelt wurde, um qualitativ hochwertige und zuverlässige Prozessergebnisse zu erzielen. Die Kombination aus fortschrittlichen optischen Messtechnologien und leistungsstarken Metrologie-Algorithmen hilft dabei, den Produktionsprozess zu optimieren und gewährleistet zuverlässige und genaue Daten für eine Vielzahl von Wafer-Produktionsanwendungen.