Gebraucht KLA / TENCOR 5300 #9194881 zu verkaufen

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KLA / TENCOR 5300
Verkauft
ID: 9194881
Wafergröße: 12"
Overlay measurement system, 12" FOUP Without SMIF Upgraded to Archer 10.
KLA/TENCOR 5300 ist die neueste Lösung für Wafertests und Messtechnik. Diese Ausrüstung ist für zerstörungsfreie Tests in Halbleiterproduktionsprozessen konzipiert, um den Anforderungen der sehr kleinen Funktionsgrößen bei fortgeschrittenen Designs gerecht zu werden. Mit exklusiver Technologie kombiniert mit der zerstörungsfreien Messfähigkeit und fortschrittlicher automatisierter Messtechnik kann KLA 5300 Fehler in Wafern jeder Größe oder Form in Größen von 3 „bis 8“, einschließlich monokristalliner, polykristalliner und keramischer Materialien, schnell identifizieren. Das System verfügt über mechanische und optische Komponenten, die es ermöglichen, die Form und Referenzpegel des Wafers an mehreren Positionen genau zu messen. Es verfügt auch über einen grünen Laser und eine 4K-Kamera, die Tausende von Defekten, Partikeln und Oberflächenanomalien auf dem Wafer ohne zusätzlichen Aufwand vom Bediener erfassen. Der Roboterhandler und die fortschrittliche Software ermöglichen es TENCOR 5300, größere als normale Proben, einschließlich größerer Substrate und Galliumarsenid-Proben, zu inspizieren und gleichzeitig Fehler genau zu erkennen. 5300 bietet auch eine Reihe von High-Level-Algorithmen, die eine automatisierte Anomalieerkennung und -korrektur ermöglichen. Dies bietet einen hochautomatisierten Workflow, der eine konsistente und genaue Fehlerinspektion ermöglicht. Darüber hinaus ist die Einheit in der Lage, mehrere Schichten eines einzelnen Wafers gleichzeitig abzutasten, und die mehrschichtige Scan-Funktion funktioniert ohne manuelle Einrichtung. Dies kann die Fehlererkennung drastisch beschleunigen. KLA/TENCOR 5300 verfügt über messtechnische Fähigkeiten für kleine Merkmalsgrößen bis zu 2 µm, was besonders wichtig für die Inspektion kleiner, submikronischer Merkmalsgrößen ist, die in fortschrittlichen technischen Designs immer häufiger vorkommen. Schließlich bietet die Maschine auch eine statistische Prozesssteuerung (SPC), ein leistungsstarkes Werkzeug, das es dem Benutzer ermöglicht, Wafereigenschaften zu verfolgen und Einblicke in eventuelle Anomalien zu haben, die zur Verbesserung des Gesamtprozesses verwendet werden können. Abschließend ist KLA 5300 das ultimative Advanced Wafer Metrology Tool, das sowohl Präzision als auch Geschwindigkeit bietet und Tausende von Defekten und Partikeln genau und effizient inspizieren kann. Es ist die ideale Lösung, um dem Bedarf an fortschrittlichen Designs, die sehr kleine Funktionsgrößen erfordern, gerecht zu werden.
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