Gebraucht KLA / TENCOR 6220 Surfscan #9174323 zu verkaufen

ID: 9174323
Defect inspection system, 4"-8" Laser hours: 2,184 PSL Sizing Automatic wafer handler Sensitivity: Most surfaces: 0.20μm @ 95% Polished surfaces: 0.10μm @ 95% Detects sub-micron particles on bare silicon Capture rate: 0.12μm defect sensitivity on bare silicon Repeatability: Less than 1.0% at 1 standard deviation Mean count: > 500 Diameter latex spheres on bare silicon: 0.204 Contamination: Less than 0.005 particles / cm > 0.15 μm Haze sensitivity: 0.02 ppm Defect map & Histogram: Zoom illumination source Argon-ion laser: 30 mW Wavelength: 488 nm 2D Signal integration: 50μm Spatial resolution Non-contaminating robotic handler Random access: Sender / Receiver unit.
KLA/TENCOR 6220 Surfscan ist eine voll programmierbare Wafer-Prüf- und Messtechnik mit einer Vielzahl von photometrischen, atomaren Kraftmikroskopen (AFM), topographischen und spektrometrischen Fähigkeiten. Es ist ideal für den Einsatz in der Nanoproduktion, Prozesssteuerung und Forschung und Entwicklung von fortschrittlichen Halbleitermaterialien. Seine Fähigkeit, sich mit anderen messtechnischen Systemen zu integrieren, macht es zu einer großen Wahl für die Produkt- und Prozessentwicklung. Das optische Detektionssystem von KLA 6220 Surfscan mit hoher Dichte erfasst Bilder und Karten von Fehlerstellen, klassifiziert und misst diese automatisch. Es enthält multimodale Scanmodi für die Filminspektion, Kartierung über einen Film in drei Dimensionen und über einzelne Filmoberflächen. Dadurch können Wafer-Mapping und eine Reihe von Fehleranalysen problemlos durchgeführt werden. TENCOR 6220 Surfscan wurde für maximale Vielseitigkeit und Genauigkeit entwickelt. Es verwendet eine Vielzahl von Lasern, um präzise Messungen von Defekten auf der Waferoberfläche zu liefern. Seine bildgebende Einheit, basierend auf probabilistischen Algorithmen, kann zwischen Fehlermerkmalen wie Gruben, Markierungen und Kratzern unterscheiden. Es kann auch Rauheit sowohl auf der vertikalen als auch auf der horizontalen Oberfläche des Wafers mit höchster Genauigkeit untersuchen. 6220 Surfscan umfasst auch zuverlässige Messtechnik-Systeme, die präzise Messungen der Schichtdicke und Materialeigenschaften wie Reflexion und Brechungsindex ermöglichen. Seine optischen, AFM- und Spektrometriesysteme arbeiten zusammen, um genaue Messungen der chemischen Zusammensetzung, Schichtdicke und Kristallwachstumsorientierung zu liefern, um die Prozesskontrolle sicherzustellen. KLA/TENCOR 6220 Surfscan kommt mit einer Vielzahl von Schnittstellenoptionen, einschließlich chemischer Detektion und elektrischer Messungen. Es verfügt auch über eine robuste Software, um den Prozess der Ausrichtung von Wafern und der Aufnahme von Bildern zu vereinfachen. So können Forscher und Ingenieure mit der Maschine neue Materialien, Verfahren und Technologien entwickeln und testen. Abschließend ist KLA 6220 Surfscan ein fortschrittliches und vielseitiges Wafer-Test- und Messtechnik-Tool, das Fehler präzise messen und untersuchen kann. Mit seinen multimodalen Scanfunktionen und zuverlässigen Messungen ist es eine gute Wahl für die Produkt- und Prozessentwicklung für fortschrittliche Halbleitermaterialien.
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