Gebraucht KLA / TENCOR 7600 #9300225 zu verkaufen
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ID: 9300225
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1993
Particle inspection station, 8"
Patterned surface inspection system
ARGON Laser
Power supply: 208 V, 60 Hz
1993 vintage.
KLA/TENCOR 7600 Wafer-Prüf- und Messtechnik ist ein vollautomatisiertes Messsystem, das zur Messung und Analyse von Wafereigenschaften wie Stempelgröße, Ebenheit, Defektparameter und Verschmutzung entwickelt wurde. Das Gerät kombiniert hochpräzise optische Erfassung mit fortschrittlicher Bildverarbeitung, um eine breite Palette von Parametern wie Oberflächentopographie, Defekteigenschaften, Geometrie und Kontamination genau und schnell zu messen. Die Maschine ist mit einer Hochleistungsarchitektur gebaut, die sich auf Genauigkeit, Geschwindigkeit und Präzision konzentriert. Seine High-End-Beleuchtung und hochauflösende Kamerakonfigurationen bieten eine hervorragende Signalerfassung für außergewöhnliche Ergebnisse. Die integrierte hochauflösende Bildgebung ermöglicht schnelle Abtastraten und eine überlegene Bildauflösung. Die robuste Scanfähigkeit hat sich bewährt, um sowohl große als auch kleine Merkmale genau zu erfassen und zu messen, was optimale Inspektionsergebnisse ermöglicht. Die integrierte State-of-the-Art-Software ermöglicht eine intuitive Bedienung der Benutzeroberfläche, so dass es mühelos ist, das Tool schnell zu bedienen. Es ermöglicht die Flexibilität, das Setup von Funktionen auf Asset-Ebene an bestimmte Anwendungen anzupassen. Die intelligente Checklistenfunktion sorgt dafür, dass die Wafereigenschaften schnell gemessen und mit minimaler Benutzerinteraktion überprüft werden. Das Modell umfasst umfassende Funktionen zur Datenanalyse, mit denen Benutzer Informationen auf granularer Ebene speichern und analysieren können. Dazu gehören erweiterte Visualisierungstools und statistische Prozesssteuerung (SPC) zur Unterstützung der Prozessoptimierung. Die KLA 7600 bietet durch ihr energieeffizientes Design eine hervorragende Umweltverträglichkeit. Das Gerät ist für den Dauerbetrieb ausgelegt und eignet sich aufgrund seines optimalen Staubschutzes gut für kritische Reinraumanwendungen. Insgesamt bietet das Wafer-Prüf- und Messtechnik-System TENCOR 7600 eine Kombination aus leistungsfähiger und zuverlässiger Leistung für eine breite Palette von Wafer-Prüf- und Messtechnik-Anwendungen. Das umfassende Feature-Set und die überlegene optische Leistung machen es zu einer idealen Lösung für eine Vielzahl von Anforderungen an die Prozesssteuerung.
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