Gebraucht KLA / TENCOR AIT II #9227399 zu verkaufen

KLA/TENCOR AIT II ist ein modernes Wafertest- und Messtechniksystem, das Geräte auf einer Waferoberfläche bis hin zu nanometrischen Auflösungen messen und analysieren soll. Es ist in der Lage, verschiedene Arten von Messtechnik und optischen Inspektionstechniken in einem Durchgang zu kombinieren. Dies ermöglicht es, verschiedene Formen, Größen und Eigenschaften verschiedener Geräte auf dem Wafer zu identifizieren und zu messen, einschließlich Transistoren, Widerstände, Kondensatoren und andere Halbleiterbauelemente. KLA AIT II setzt auf eine Kombination aus hochauflösender Bildgebung, kombiniert mit optischer fortschrittlicher Messtechnik, um Auflösungen auf Nanometerebene zu erreichen. Es besteht aus einer Waferbühne, einer 3D-Mikroskopbaugruppe und einer Haupteinheit, in der die Laseroptik, die Kameraoptik und ein Controller untergebracht sind. Die Waferstufe hält den Wafer, während die 3D-Mikroskopbaugruppe über eine hochauflösende Objektivlinse verfügt, die die genaue Position der mikroskopischen Merkmale auf dem Wafer messen kann. Dadurch kann das Mikroskop Form, Größe und andere Eigenschaften von Elementen auf der Waferoberfläche genau messen. Die Haupteinheit von TENCOR AIT II beherbergt die Optik, einschließlich Lasersensor, Kameraoptik und Controller. Der Lasersensor verwendet leistungsarmes Laserlicht, um eigenartige Merkmale auf der Waferoberfläche aufzudecken. Dieses Licht beleuchtet die Merkmale auf der Waferoberfläche so, dass die Software sie erkennen kann. Die Kameraoptik ermöglicht es dem Benutzer, Fotos von der Waferoberfläche zu machen, mit denen detaillierte Bilder erstellt werden können. Schließlich fungiert der Controller als „Gehirn“ des Systems und steuert den Betrieb der Wafer Stage, der 3D Microscope Assembly sowie des Lasersensors, der Kamera und der Optik. AIT II wurde entwickelt, um Waferreklamationen und Abstoßungen zu reduzieren, Zykluszeiten zu verringern und sowohl die Erträge als auch die Prozesskontrolle zu verbessern. Es kann Merkmale in der Größenordnung von 88 Nanometern oder besser erkennen, mit einem Sichtfeld von 150 mm, was es zu einem idealen Werkzeug für die Charakterisierung von Prozessen und Geräten macht. Es kann auch verwendet werden, um mögliche Fehlermodi zu identifizieren, bevor sie zu einem Problem werden, und den Herstellern zu helfen, zukünftige Renditeverluste zu beseitigen oder zu reduzieren. Insgesamt ist KLA/TENCOR AIT II ein fortschrittliches Messtechnik-Wafer-Test- und Messtechnik-System, das Daten schnell und präzise bis hin zu Nanometer-Skalenauflösungen sammeln kann. Es wurde entwickelt, um die Geräteerträge zu erhöhen und Abfälle zu reduzieren, was es zu einer wertvollen Investition für Fertigungsvorgänge macht.