Gebraucht KLA / TENCOR AIT UV #9285827 zu verkaufen

ID: 9285827
Wafergröße: 12"
Darkfield inspection system, 12" SECS II / GEM Communication interface High resolution chuck Image grab feature Multi channel collection optics system with independent programmable spatial filters and adaptive PMT modules Image process computer Blue laser: 448 nm (2) FOUP Load ports 0.1 Micron detection Un-patterned recipe capability.
KLA/TENCOR AIT UV ist eine Messtechnik der nächsten Generation. Ziel ist es, die Qualität von Wafern zu messen, die in einer Produktionsumgebung hergestellt werden. Dies ist ein wesentlicher Prozess bei der Herstellung von ICs, die eine genaue Maßhaltigkeit und Prozesskontrolle erfordern. Das System verwendet eine Kombination von Techniken, um den Wafer in einer ultravioletten Umgebung zu inspizieren. Die Technologie verwendet fortschrittliche Bildgebungs-, Strahlprofilierungs- und Strukturierungsfähigkeiten, um die Oberfläche des Wafers bis zur Nanometergenauigkeit zu messen. Dazu gehört sowohl die optische als auch die akustische Abbildung des Wafers. Die bildgebende Einheit verfügt über ein Hochleistungs-Konfokalmikroskop. Dies ermöglicht eine strengere und genauere Analyse als andere Systeme. Seine Auflösung und Genauigkeit kann Oberflächenmerkmale bis zur Nanometerebene messen. Es ist in der Lage, Topographie, Oberflächengüte und Gleichmäßigkeit zu erkennen. Die Strahlprofiliermaschine nutzt zweidimensionale strahlenförmige Messfähigkeiten. Es ermöglicht eine schnelle und präzise Charakterisierung der Oberfläche des Wafers. Dies trägt dazu bei, dass eine ordnungsgemäße Beziehung zwischen dem Wafer und dem Substrat besteht. Zusätzlich enthält das Musterwerkzeug einen im Nanometermaßstab geprüften Merkmalstransfer. Mit diesem Verfahren wird eine strukturierte Schicht von einem Substrat auf ein anderes übertragen. Dies hilft, die Prozessparameter zu verbessern und die notwendige Präzision für die Fertigung aufrechtzuerhalten. Diese leistungsstarke Messtechnik liefert hervorragende Ergebnisse und Zuverlässigkeit. Es ist in der Lage, die kritischen Merkmale des Wafers zu messen, und hilft, sicherzustellen, dass die Wafer mit den gewünschten Spezifikationen übereinstimmen. KLA AIT UV ist der Schlüssel zu nachhaltiger Wafer-Produktionsqualität und optimierten Prozessparametern. Das Modell bietet Genauigkeit, Präzision und Wiederholbarkeit, die erforderlich sind, um sicherzustellen, dass nur akzeptable Wafer im Herstellungsprozess verwendet werden.
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