Gebraucht KLA / TENCOR Alpha Step 100 #9016122 zu verkaufen

KLA/TENCOR Alpha Step 100 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die für zerstörungsfreie optische Messungen und 3D-Topographie von Eigenschaften im Nanometermaßstab verwendet werden kann. Dieses System ermöglicht eine präzise Messung von Gerätestrukturen, mehreren Schichtdicken und kritischen Abmessungen auf Halbleiterscheiben und anderen Substraten. KLA Alpha Step 100 verfügt über ein Rastertunnelmikroskop (STM) und ein Quad-Cell-Interferometer (QCI) zur genauen Messung einer Vielzahl von Parametern. Das STM arbeitet in einer Vakuumumgebung und ermöglicht die Abbildung von Oberflächenmerkmalen mit Nanometergenauigkeit. Das QCI misst neben 3D-topographischen Merkmalen von Waferoberflächen auch Filmdicken auf Nanometerebene. Das Gerät verfügt außerdem über ein berührungsloses Oberflächenprofilometer, das 3D-Bilder von Oberflächen mit 2,5 Nanometer Bildauflösung erfasst. Das Profilometer sammelt neben den Materialeigenschaften wie der Oberflächenrauhigkeit topographische und Oberflächendaten. TENCOR Alpha Step 100 ist in der Lage, auch die subtilsten Defekte zu erkennen und bietet die höchste Genauigkeit sowohl für die Wafermessung als auch für die Druckinspektion. Es verfügt über ein erweitertes Analyseprogramm zur Phasenverschiebung, das sowohl Über- als auch Unterbelichtungsprobleme erkennen kann. Die Maschine enthält auch ein Analysepaket zur Messung kritischer Abmessungen und Adressierung von Linienbreite, Linienkantenrauhigkeit, Linien- und Raumbreitenvariation und Überlagerung zwischen Schichten. Alpha Step 100 kann mit Messwerkzeugen für zusätzliche Anwendungen wie Prozessüberwachung und Ertragsanalyse integriert werden. Zusätzlich kann dieses Tool mit einer Autostage-Funktion verwendet werden, um Tests mit hohem Durchsatz zu ermöglichen. Die Anlage ist auch mit einem computergesteuerten optischen Kopf ausgestattet, der eine berührungslose Multiproben-Ausrichtung und -Messung ermöglicht und eine hochpräzise Prüfung in einem Durchgang ermöglicht. Das Modell ermöglicht eine vollständige 3D-topographische Bildgebung ohne die Notwendigkeit einer planaren oder Wafer-Fokuskorrektur. Dies ist sowohl für die Waferqualifizierung als auch für die Überwachung der Prozessdrift von Werkzeug zu Werkzeug und durch Prozessabläufe von entscheidender Bedeutung. Darüber hinaus verfügt KLA/TENCOR Alpha Step 100 über eine programmierbare Waferstufe mit mehreren Proben, die in verschiedenen Konfigurationen ausgerichtet sind, um den Durchsatz und die Genauigkeit für verschiedene Formgrößen zu optimieren, was es für die Prüfung von Halbleiterwafern sehr nützlich macht.