Gebraucht KLA / TENCOR Alpha Step 200 #293600510 zu verkaufen

KLA/TENCOR Alpha Step 200 Wafer-Prüf- und Messtechnik ist ein automatisiertes Test- und Analysesystem, das die elektrischen und physikalischen Eigenschaften von Halbleiterbauelementen messen kann. Die Einheit nutzt die DIC-Mikroskopie (Differential Interference Contrast) und optische Streutechniken, um elektrische, mechanische und strukturelle Eigenschaften auf einer Reihe von Substraten zu messen. Die Maschine bietet auch Datenanalysen zur Erkennung von Ungleichmäßigkeiten und ist in der Lage, einen vorzeitigen Ausfall einzelner Geräte zu erkennen. KLA ALPHASTEP 200 verwendet verschiedene Testtechniken, darunter SEM/ESEM, SEU, OBIRCH und EBIRCH. SEM und ESEM sind Rasterelektronenmikroskopie-Techniken, die verwendet werden, um elektrische, mechanische und strukturelle Defekte aufgrund von Oberflächen-, Metall- und Isolierfilmen zu erkennen. SEU und OBIRCH sind Rasterelektronenspektrometrie-Techniken, um elektrische und physikalische Eigenschaften wie Flächenwiderstand, Zwischenschichtkapazität und Kontaktwiderstand zu analysieren. EBIRCH (Electron Backscattering Imaging) wird verwendet, um hochauflösende Bilder von dünnen Filmen und Defekten zu erkennen. TENCOR ALPHA-STEP 200 nutzt ein großes Sichtfeld (FOV), mit dem bis zu acht Proben pro Flächeneinheit getestet werden können. Dies ermöglicht die höchste Konzentration von Messpunkten pro Probe, den höchsten Durchsatz und die beste Gleichmäßigkeit. Das Werkzeug ist in der Lage, kleine Defekte bis zu 1 Mikron genau zu erkennen. Die Anlage nutzt auch einen hochempfindlichen Detektor, der kleine Veränderungen der Probeneigenschaften aufgrund von Alterungs- und Umwelteinflüssen erkennen kann. KLA Alpha Step 200 verfügt über erweiterte Bildgebungswerkzeuge zur Unterstützung der Fehleranalyse und -visualisierung. Das Modell verfügt über automatisierte Bildnahtalgorithmen, die die Erstellung von großflächigen Karten aus einzelnen Bildern ermöglichen. Das Gerät nutzt auch leistungsstarke Datenanalysetools wie Querschnittsmessungen, Statistiken, berechnete Indizes und Zeitraffermessungen. Diese liefern ein automatisches Fehlerergebnis in Halbleitern und Dielektrika. Dieses System ist ideal für den Nachweis von Ausbeute oder Prozessvariation, Messung der physikalischen Eigenschaften einschließlich Oberflächentopographie, dünne Filme und elektrische Eigenschaften. Der robuste Betrieb und der optimale Durchsatz machen es zur perfekten Wahl, um den Ertrag in den anspruchsvollsten Produktionsumgebungen zu verbessern.