Gebraucht KLA / TENCOR Alpha Step 200 #293602539 zu verkaufen

KLA/TENCOR Alpha Step 200 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik. Sie dient zur Messung der kritischen Abmessungen, Rauheit und Schichtdicke von mikroelektronischen und optoelektronischen Bauteilen. Das System kann sowohl optische als auch Röntgenanalysen durchführen und nutzt automatisierte Wafer-Mapping und umfassende Wafer-Fehleranalysen. Das optische Reflektometer Quantum (4D) kombiniert Polarisation, Spektral- und Winkelabtastung, um maximale Flexibilität und Abdeckung zu bieten. Seine Röntgeneinheit verwendet eine erweiterbare Zwei-Achsen-Gantry, um hochauflösende Messungen schnell und präzise zu sammeln. Die KLA ALPHASTEP 200 wurde entwickelt, um die Analysezeit und die damit verbundenen Kosten durch die Bereitstellung von Informationen aus mehreren elementaren Sammlungsmethoden zu verringern. Es kann eine Vielzahl von Waferformen analysieren, von kreisförmig bis zu schwer zugänglichen Trapezoiden, und ist auch in der Lage, kritische mehrschichtige Informationen mit einem Durchlauf zu sammeln. Darüber hinaus wird der automatisierte Fokus und Zoom optisch angepasst, um Daten zu erfassen, die zur Erfüllung der Kundenspezifikationen erforderlich sind. Die Messungen des TENCOR ALPHA-STEP 200 Critical Dimension (CD) können entweder optisch oder mit Röntgen durchgeführt werden. Die optische Option verwendet eine breite Palette von Vergrößerungen und variablen Beleuchtungsrichtungen, während die Röntgenoption eine erweiterbare zweiachsige Portalstruktur verwendet, die sich dynamisch über die Waferoberfläche bewegt. Die Röntgenmaschine hilft bei der Erzielung einer Präzision von 2-10nm und kann Funktionen bis zu 0,2 µm messen. Es kann auch Höhenunterschiede von KE-Wänden bis zu 5nm auflösen. KLA/TENCOR ALPHASTEP 200 ist auch in der Lage, in situ Layer Thickness (LT) Messungen durchzuführen. Diese Funktion wird verwendet, um Schichtübersprechen, Verfärbungen sowie andere Probleme mit der Gerätesicherheit zu vermeiden. Darüber hinaus verwendet die Funktion „Rauheit (R)“ entweder das optische oder das Röntgenwerkzeug, um die mittlere Rauheit von Spitze zu Tal auf der Waferoberfläche zu messen. Insgesamt ist ALPHA-STEP 200 eine fortschrittliche Komponente für Wafertests und Messtechnik für Mikroelektronik und Optoelektronik. Die Kombination aus optischen und Röntgenanalysen bietet ein genaues und umfassendes Leistungsspektrum. Die automatisierten Funktionen und die umfassende Fehleranalyse helfen, Kosten zu senken und bieten ein überlegenes Prozessverständnis, um qualitativ hochwertige und zuverlässige Produkte zu ermöglichen.