Gebraucht KLA / TENCOR Alpha Step 500 #189545 zu verkaufen

KLA/TENCOR Alpha Step 500 Wafer-Prüf- und Messtechnik ist ein Werkzeug zur Charakterisierung und Überwachung der Entwicklung von Dünnschichtmaterialien durch Messung der Tiefen von Filmen und Deckschichten auf Halbleiterscheiben. Das System kombiniert mehrere fortschrittliche Messtechniken, wie Atomic Force Microscopy (AFM), Ellipsometrie und Spektroskopie, um eine detaillierte Charakterisierung von dünnen Filmen zu ermöglichen. KLA Alpha Step 500 verfügt über einen hochpräzisen Scanmechanismus, mit dem dünne Filme bis zur Nanometergenauigkeit gemessen werden können. Das Gerät ist in der Lage, in 50, 100, 150, 200 und 250nm Schritten für genaue Tiefenmessungen zu scannen. Die Einheit ist auch in der Lage, die Schichtdicke bis zu einer Dicke von 200nm zu messen und kann subtile Schwankungen in der Dicke dünner Filme bis zu 1nm Schritten identifizieren. Darüber hinaus ist die Maschine in der Lage, eine Vielzahl von Folienmaterialien wie Aluminium, Kupfer, Zinkoxid und Tantalnitrat zu analysieren. TENCOR ALPHASTEP 500 Werkzeug ist auch in der Lage, Filmabscheidungsraten zu messen, um Dünnschichtentwicklung zu überwachen. So kann das Gut die Abscheiderate eines Films im Laufe der Zeit messen, wodurch Entwickler die Wachstumsrate des Materials (z.B. zur Erhöhung oder Verringerung der Wachstumsrate) anpassen können, um die gewünschten Eigenschaften zu optimieren. Darüber hinaus hat ALPHASTEP 500 die Fähigkeit, den Brechungsindex des zu testenden Materials zu messen, was Einblicke in die physikalischen Eigenschaften des Films geben kann. KLA/TENCOR ALPHASTEP 500 hat auch die Fähigkeit, Oberflächenverunreinigungen zu überwachen, was ein Schlüsselfaktor für die Gesamtleistung eines Chips sein kann. Das Modell ist in der Lage, Oberflächenteilchen bis zu einem Durchmesser von 0,7 µm zu messen und kann das Vorhandensein von Verunreinigungen wie Staub und Wasserpartikeln nachweisen. Darüber hinaus ist die Anlage in der Lage, Größe und Form der Partikel zu identifizieren und zu messen, um eine genaue und umfassende Charakterisierung des Dünnfilms zu ermöglichen. Neben detaillierten Einblicken in die Oberflächen von Wafern während der Produktion kann TENCOR Alpha Step 500 auch zur Untersuchung von Fertigprodukten auf Partikelverunreinigungen eingesetzt werden. Das System kann eingebettete Partikel in Substraten identifizieren und auch Materialfehler wie Hohlräume und Pinholes analysieren. Die Einheit kann auch zur Messung der Oberflächentopographie des Wafers verwendet werden, um detaillierte Informationen über Form und Position von Partikeln zu liefern. Insgesamt ist die KLA ALPHASTEP 500 eine hochgenaue und präzise Wafer-Prüf- und Messtechnik-Maschine, die eine umfassende Charakterisierung von dünnen Schichten und Substraten ermöglicht. Das Tool liefert detaillierte Einblicke in die Eigenschaften dünner Folien und kann zur Überwachung der Entwicklung von Folien, zur Messung der Abscheideraten und zur Inspektion von Fertigprodukten verwendet werden. Der Vermögenswert hat auch die Fähigkeit, Partikel mit einer Größe von bis zu 0,7 Mikrometern zu identifizieren und zu messen und kann eine eingehende Analyse von Materialfehlern und Oberflächentopographie ermöglichen.