Gebraucht KLA / TENCOR C2C/FT #9409302 zu verkaufen

KLA C2C/FT ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik, die hochauflösende Bildgebung und genaue Parametermessung für die Inspektion von Halbleiter- und Photovoltaik-Wafern bietet. Es verfügt über eine konfigurierbare Plattform, die eine breite Palette von Prozesstechnologien unterstützt und zur Verbesserung der 3D-Ertragsanalyse entwickelt wurde. Das System ist in der Lage, mehrere Abbildungsmodi wie Hellfeld/Dunkelfeld, Spektroskopie und Mikroskopie zu verwenden, um Bilder zu erfassen und präzise Messungen zu erhalten. Es bietet auch automatisierte Fehlerplatzierung und Kategorisierung, Partikel-Level-Fehlererkennung, Wafer-zu-Wafer-Vergleich und vieles mehr. Seine patentierte spektrale Abbildungstechnologie eliminiert die Notwendigkeit von Fluoreszenzfiltern und kann Parameter für die Düsen- und/oder Schaltkreisprüfung wie Photovoltaikzellen und verwandte Komponenten genau erfassen. Die C2C/FT Einheit verfügt über eine Hochleistungs-Präzisionsstufe mit adaptiver Flächenbündelstich-Technologie, die schnelles On-the-Fly-Scannen und Kalibrieren ermöglicht, was zur Verbesserung des Durchsatzes beiträgt. Eine vollständig integrierte Echtzeit-Fehlerüberprüfung ermöglicht Echtzeitanalysen und aufschlussreiche Fehlercharakterisierung. Die fortschrittlichen Funktionen der Maschine für künstliche Intelligenz ermöglichen eine genaue Messtechnik und automatisierte Prozesssteuerung. Darüber hinaus bietet das Tool eine integrierte intelligente Prozessüberwachung und -steuerung, die Echtzeitdiagnosen, Prozessmesstechnik, Datenextraktion und -analyse bietet. Es verfügt über eine multiplexierte Architektur und Multi-Spektral-/Die-Level-Bildgebung, um genaue und zuverlässige Daten mit schnellen Durchlaufzeiten zu gewährleisten. Das Modell kann in fabless Umgebungen funktionieren und ist ideal für eine breite Palette von Prozessen wie fortschrittliche optische und Halbleiterlithographie, CMP, Polieren und fortschrittliche Fehlerreduktion. Insgesamt ist TENCOR C2C/FT eine fortschrittliche Wafer-Prüf- und Messtechnik, die Bildgebung, Parametermessungen und Defektcharakterisierung für Halbleiter- und Photovoltaik-Wafer bietet. Die konfigurierbare Plattform und die leistungsstarken Funktionen sind ideal für die Reduzierung von Defekten und die Optimierung der Prozesssteuerung.